西北工業大學馬炳和獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉西北工業大學申請的專利一種藍寶石基光學式流體壁面剪應力傳感器及制備方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN120176895B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-29發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510662121.0，技術領域涉及：G01L1/24；該發明授權一種藍寶石基光學式流體壁面剪應力傳感器及制備方法是由馬炳和;劉赟哲;陳云健;鄧進軍;張興旭設計研發完成，并于2025-05-22向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種藍寶石基光學式流體壁面剪應力傳感器及制備方法在說明書摘要公布了：本發明涉及微納制造技術領域，具體涉及一種藍寶石基光學式流體壁面剪應力傳感器及制備方法，該制備方法包括：在支撐基底上制備固定光柵和焊接薄膜；在敏感基底上加工凹腔，在凹腔內加工凹槽以形成與浮動元件形狀相同的目標結構，并在目標結構上制備敏感光柵；焊接敏感基底和支撐基底形成鍵合晶圓；制備彈性梁和浮動元件以形成剪應力傳感器。本發明通過高密度多角度飛秒激光刻蝕、磁流變和IBE結合凹腔拋光以及藍寶石?鉑金屬薄膜的激光焊接，實現壁面剪應力傳感器的制備，制備過程不需要將整個藍寶石晶圓置于高溫和高壓的鍵合環境中，對焊接前后的工藝選擇沒有限制，從而降低了整體制備工藝的難度。
本發明授權一種藍寶石基光學式流體壁面剪應力傳感器及制備方法在權利要求書中公布了：1.一種藍寶石基光學式流體壁面剪應力傳感器，其特征在于，包括： 支撐基底層，其上設置有敏感結構層； 其中，支撐基底層包括：支撐基底，其上表面的中心陣列設置有多個固定光柵，多個固定光柵外部的支撐基底上設置有焊接薄膜；敏感結構層包括：敏感基底，敏感基底連接在支撐基底上，且敏感基底上設置有通槽，通槽內設置有活動結構，活動結構朝向支撐基底的一面上陣列設置有多個敏感光柵，敏感光柵和固定光柵對應設置并形成莫爾條紋；支撐基底和敏感基底均采用藍寶石材料；焊接薄膜包括設置于支撐基底上的鈦金屬薄膜，鈦金屬薄膜上設置有鉑金屬薄膜； 支撐基底的厚度200-500μm，固定光柵厚度為100-300nm，固定光柵的周期為10-50μm，占空比為30%-70%；敏感基底的厚度30-150μm；通槽的深度為20-50μm；敏感光柵厚度為100-300nm，敏感光柵的周期為10-50μm，占空比為30%-70%；敏感光柵7的周期與固定光柵4有周期差距小于或者等于1μm。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人西北工業大學，其通訊地址為：710072 陜西省西安市碑林區友誼西路127號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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