福建省晉華集成電路有限公司童宇誠獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉福建省晉華集成電路有限公司申請的專利半導體器件及其形成方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN111640751B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-12發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：201911235742.1，技術領域涉及：H10B12/00；該發明授權半導體器件及其形成方法是由童宇誠;賴惠先;林昭維;朱家儀設計研發完成，并于2019-12-05向國家知識產權局提交的專利申請。
本半導體器件及其形成方法在說明書摘要公布了：本發明提供了一種半導體器件及其形成方法。在利用位線組和隔離線組界定出節點接觸窗陣列的基礎上，還進一步設置輔助線，以利用輔助線界定出輔助接觸窗在節點接觸窗陣列的外圍，此時基于該輔助接觸窗，即可以有效均衡節點接觸窗陣列中邊緣區域和中間區域的節點接觸窗的排布密度，提高了位于邊緣區域的節點接觸窗的形貌精度，并可進一步提高了位于邊緣區域的節點接觸窗和位于中間區域的節點接觸窗的形貌均勻性。
本發明授權半導體器件及其形成方法在權利要求書中公布了：1.一種半導體器件，其特征在于，包括： 襯底，所述襯底上定義有記憶體區和位于所述記憶體區外周圍的周邊區； 位線組，形成在所述襯底上并至少位于所述記憶體區中，以及所述位線組包括多條位線，所述位線沿著第一方向延伸，多條所述位線沿著第二方向依次間隔排布； 隔離線組，形成在所述襯底上并至少位于所述記憶體區中，以及所述隔離線組包括多條隔離線，所述隔離線沿著第二方向延伸，多條所述隔離線沿著第一方向依次間隔排布，并使所述隔離線與所述位線相交，以界定出節點接觸窗陣列在所述記憶體區中； 多條輔助線，形成在所述襯底的所述周邊區中，用于界定出多個輔助接觸窗在所述周邊區中，多個所述輔助接觸窗位于所述節點接觸窗陣列的外周圍； 所述位線還在其延伸方向上從所述記憶體區延伸至所述周邊區；以及，所述多條輔助線包括若干第一輔助線，所述若干第一輔助線沿著第一方向排布在所述隔離線組的外側，以及所述第一輔助線沿著第二方向延伸，并使所述位線中延伸至所述周邊區的部分和所述第一輔助線相交，以界定出所述輔助接觸窗在所述周邊區中；其中，所述節點接觸窗中填充有導電材料，以構成節點接觸部；所述輔助接觸窗中填充有絕緣材料，以構成輔助填充柱。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人福建省晉華集成電路有限公司，其通訊地址為：362200 福建省泉州市晉江市集成電路科學園聯華大道88號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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