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          當前位置 : 首頁 > 專利喜報 > 北京北旭電子材料有限公司;北旭(湖北)電子材料有限公司胡凡華獲國家專利權

          北京北旭電子材料有限公司;北旭(湖北)電子材料有限公司胡凡華獲國家專利權

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          龍圖騰網獲悉北京北旭電子材料有限公司;北旭(湖北)電子材料有限公司申請的專利一種提升光刻膠均勻性的光刻膠生產方法及系統獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN120233641B

          龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-29發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202510726110.4,技術領域涉及:G03F7/16;該發明授權一種提升光刻膠均勻性的光刻膠生產方法及系統是由胡凡華;張騰;李楊;樸大然;盧克軍設計研發完成,并于2025-06-03向國家知識產權局提交的專利申請。

          一種提升光刻膠均勻性的光刻膠生產方法及系統在說明書摘要公布了:本申請提出了一種提升光刻膠均勻性的光刻膠生產方法及系統,其中方法包括:獲得預設膠液配方的旋涂轉速區間時序信息和溫濕度區間時序信息,結合旋涂轉速區間時序信息和溫濕度區間時序信息,配置光刻膠生產控制邊界條件;統計厚度均勻性系數和表面粗糙度均勻性系數;若厚度均勻性系數滿足厚度均勻性閾值,且表面粗糙均勻性系數滿足粗糙度均勻性閾值時,通過旋涂轉速區間時序信息和溫濕度區間時序信息初始化目標光刻膠生產線執行光刻膠制備。本申請解決了現有光刻膠生產控制中,不同光刻膠生產線的設備控制存在微量擾動,導致光刻膠厚度均勻性和表面粗糙度均勻性存在偏差的技術問題,達到了提高光刻膠厚度均勻性和表面粗糙度均勻性的技術效果。

          本發明授權一種提升光刻膠均勻性的光刻膠生產方法及系統在權利要求書中公布了:1.一種提升光刻膠均勻性的光刻膠生產方法,其特征在于,包括: 獲得預設膠液配方的旋涂轉速區間時序信息和溫濕度區間時序信息; 調取目標光刻膠生產線的預設時區生產日志,統計旋涂轉速控制擾動閾值和溫濕度控制擾動閾值; 根據所述旋涂轉速控制擾動閾值和所述溫濕度控制擾動閾值,結合所述旋涂轉速區間時序信息和所述溫濕度區間時序信息,配置光刻膠生產控制邊界條件; 統計滿足所述光刻膠生產控制邊界條件和所述預設膠液配方的光刻膠生產歷史樣本集的厚度均勻性系數和表面粗糙度均勻性系數,包括: 提取所述光刻膠生產控制邊界條件的第一光刻膠生產控制邊界條件,其中,所述第一光刻膠生產控制邊界條件包括旋涂轉速邊界值時序信息、溫度邊界值時序信息和濕度邊界值時序信息; 對旋涂轉速、溫度和濕度進行光刻膠厚度均勻性影響權重分析,獲得第一旋涂轉速權重、第一溫度權重、第一濕度權重,結合所述旋涂轉速邊界值時序信息、所述溫度邊界值時序信息和所述濕度邊界值時序信息,構建第一索引約束; 對旋涂轉速、溫度和濕度進行光刻膠表面粗糙度均勻性影響權重分析,獲得第二旋涂轉速權重、第二溫度權重、第二濕度權重,結合所述旋涂轉速邊界值時序信息、所述溫度邊界值時序信息和所述濕度邊界值時序信息,構建第二索引約束; 檢索滿足所述第一索引約束和所述預設膠液配方的第一光刻膠生產歷史樣本集,并計算第一光刻膠生產歷史樣本集中所有樣本的光刻膠厚度均勻性的平均值,得到第一厚度均勻性系數; 檢索滿足所述第二索引約束和所述預設膠液配方的第二光刻膠生產歷史樣本集,并計算第二光刻膠生產歷史樣本集中所有樣本的表面粗糙度均勻性的平均值,得到第一表面粗糙度均勻性系數; 將所述第一厚度均勻性系數和所述第一表面粗糙度均勻性系數,添加進所述厚度均勻性系數和所述表面粗糙度均勻性系數; 若所述厚度均勻性系數滿足厚度均勻性閾值,且所述表面粗糙度均勻性系數滿足粗糙度均勻性閾值時,通過所述旋涂轉速區間時序信息和所述溫濕度區間時序信息初始化所述目標光刻膠生產線執行光刻膠制備。

          如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術,可聯系本專利的申請人或專利權人北京北旭電子材料有限公司;北旭(湖北)電子材料有限公司,其通訊地址為:100016 北京市朝陽區東直門外酒仙橋路10號;或者聯系龍圖騰網官方客服,聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。

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