南京源昌新材料有限公司李建穩獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉南京源昌新材料有限公司申請的專利一種用于生產碳納米管薄膜的聯排CVD反應裝置獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN112981363B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-26發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：201911278328.9，技術領域涉及：C23C16/26；該發明授權一種用于生產碳納米管薄膜的聯排CVD反應裝置是由李建穩;何占宇;曾培源;王帝;沈健民設計研發完成，并于2019-12-13向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種用于生產碳納米管薄膜的聯排CVD反應裝置在說明書摘要公布了：本發明提供一種用于生產電阻均一的碳納米管薄膜的CVD反應裝置，具體涉及碳納米管薄膜生產裝置技術領域，包括一支大反應管，所述大反應管的內腔中周向均勻設有若干反應室，每個所述反應室的形狀大小相同。本發明，一方面通過增加CVD反應裝置內參與生產碳納米管薄膜的反應室的數量，來提高單位時間內碳納米管的產出量，縮短碳納米管薄膜的收集時間，進而有效的減少能源浪費。另一方面，通過增加碳納米管管束的數量，有效的減小因單支碳納米管管束的中斷，對碳納米管薄膜電阻均一性的影響。
本發明授權一種用于生產碳納米管薄膜的聯排CVD反應裝置在權利要求書中公布了：1.一種用于生產碳納米管薄膜的聯排CVD反應裝置，其特征在于，包括一支大反應管，所述大反應管的內腔中周向均勻設有若干反應室，每個所述反應室的形狀大小相同； 所述反應室由小反應管構成，所述大反應管內設有支撐管，所述大反應管的軸線和所述支撐管的軸線重合，所有的所述小反應管環繞所述支撐管以緊密堆積方式安置于所述大反應管內； 所述小反應管和所述支撐管的外徑一樣大； 相鄰的所述小反應管之間的縫隙以及所述小反應管和所述支撐管之間的縫隙內填充導熱和緩沖材料； 所述支撐管為實心填充管。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人南京源昌新材料有限公司，其通訊地址為：211500 江蘇省南京市六合區雄州街道河畔家園A區1號樓1009室；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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