ASML荷蘭有限公司艾曼·哈穆達獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉ASML荷蘭有限公司申請的專利用于目標圖案的基于規則的重靶向的方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114600047B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-26發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202080074277.2，技術領域涉及：G03F7/20；該發明授權用于目標圖案的基于規則的重靶向的方法是由艾曼·哈穆達設計研發完成，并于2020-09-24向國家知識產權局提交的專利申請。
本用于目標圖案的基于規則的重靶向的方法在說明書摘要公布了：本文描述一種用于產生用于待印刷于襯底上的目標圖案的重靶向圖案的方法。該方法包括：獲得i包括至少一個特征的目標圖案，該至少一個特征具有包括第一維度和第二維度的幾何形狀；以及ii多個偏差規則，該多個偏差規則被定義為第一維度、第二維度和與目標圖案的在測量區域內的特征相關聯的性質的函數；確定所述性質的在目標圖案的至少一個特征上的多個位置處的值，每個位置均被所述測量區域包圍；基于所述性質的所述值，從所述多個偏差規則中選擇偏差的子集；以及通過將所選擇的偏差的子集應用至目標圖案的所述至少一個特征，產生重靶向圖案。
本發明授權用于目標圖案的基于規則的重靶向的方法在權利要求書中公布了：1.一種產生用于待印刷于襯底上的目標圖案的重靶向圖案的方法，所述方法包括： 獲得（i）包括至少一個特征的所述目標圖案以及（ii）多個偏差規則，所述至少一個特征具有包括第一維度和第二維度的幾何形狀，所述多個偏差規則被定義為所述第一維度、所述第二維度和與所述目標圖案的在測量區域內的多個特征相關聯的性質的函數； 確定所述性質的在所述目標圖案的所述至少一個特征上的多個位置處的值，其中，每個位置均被所述測量區域包圍； 基于所述性質的所述值，從所述多個偏差規則中選擇針對所述至少一個特征上的所述多個位置的偏差的子集；以及 通過將所選擇的偏差的子集應用至所述目標圖案的所述至少一個特征，產生用于所述目標圖案的所述重靶向圖案。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人ASML荷蘭有限公司，其通訊地址為：荷蘭維德霍溫；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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