ASML荷蘭有限公司羅映獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉ASML荷蘭有限公司申請的專利用于聚焦帶電粒子束的系統和方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN113614872B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-05發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：201980086941.2，技術領域涉及：H01J37/147；該發明授權用于聚焦帶電粒子束的系統和方法是由羅映;董仲華;殷學會;狄隆;鄧年沛;方偉;浦凌凌;費若沖;朱博航;劉瑜設計研發完成，并于2019-12-19向國家知識產權局提交的專利申請。
本用于聚焦帶電粒子束的系統和方法在說明書摘要公布了：公開了一種帶電粒子束系統300。帶電粒子束系統包括平臺201，該平臺被配置為保持樣本203并且能夠在X?Y?Z軸中的至少一個軸上移動。帶電粒子束系統還包括用于確定平臺的橫向位移和豎直位移的定位感測系統350,340以及束偏轉控制器367，該束偏轉控制器367被配置為：施加第一信號，以將入射在樣本上的初級帶電粒子束330偏轉來至少部分地補償橫向位移；以及施加第二信號，以調整入射在樣本上的經偏轉的帶電粒子束的焦點來至少部分地補償平臺的豎直位移。第一信號和第二信號可以包括分別具有在10kHz至50kHz以及50kHz至200kHz的范圍中的高帶寬的電信號。另外，公開了一種非暫時性計算機可讀介質，包括用于使裝置300執行方法的指令的集合，裝置包括帶電粒子源310以生成初級帶電粒子束314,330，該方法包括：確定平臺201的橫向位移，其中平臺能夠在X?Y軸中的至少一個軸上移動；以及指示控制器367施加第一信號，以使入射在樣本203上的初級帶電粒子束偏轉來至少部分地補償橫向位移。
本發明授權用于聚焦帶電粒子束的系統和方法在權利要求書中公布了：1.一種帶電粒子束系統，包括： 平臺，被配置為保持樣本并且能夠在X-Y和Z軸上移動； 定位感測系統，被配置為確定所述平臺的橫向位移和豎直位移；以及 控制器，被配置為： 施加第一信號，以使入射在所述樣本上的初級帶電粒子束偏轉來至少部分地補償所述平臺的所述橫向位移；以及 施加第二信號，以調整入射在所述樣本上的經偏轉的帶電粒子束的聚焦來至少部分地補償所述平臺的所述豎直位移，其中所述豎直位移對應于所述平臺在所述Z軸上的目標定位和所述平臺的當前定位之間的差。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人ASML荷蘭有限公司，其通訊地址為：荷蘭維德霍溫；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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