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龍圖騰網(wǎng)獲悉ASML荷蘭有限公司申請(qǐng)的專利收集器流動(dòng)環(huán)獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN114846410B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-26發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202080089564.0，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G03F7/20；該發(fā)明授權(quán)收集器流動(dòng)環(huán)是由T·J·哈頓;馬悅;M·G·蘭格洛斯;J·伯克;E·J·S·約翰遜設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2020-12-09向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本收集器流動(dòng)環(huán)在說明書摘要公布了：提供了用于收集器流動(dòng)環(huán)CFR殼體的系統(tǒng)、設(shè)備和方法，收集器流動(dòng)環(huán)CFR殼體被配置為減輕燃料碎屑在極紫外EUV輻射系統(tǒng)中的積聚。示例CFR殼體可以包括多個(gè)噴頭流動(dòng)通道出口，該多個(gè)噴頭流動(dòng)通道出口被配置為在CFR殼體的等離子體面向的表面的多個(gè)部分之上輸出多個(gè)第一氣態(tài)流體流動(dòng)。示例CFR殼體還可以包括檐槽清洗流動(dòng)通道出口，該檐槽清洗流動(dòng)通道出口被配置為在CFR殼體的燃料碎屑接收表面之上輸出第二氣態(tài)流體流動(dòng)。示例CFR殼體還可包括被配置為支持護(hù)罩組裝件的護(hù)罩安裝結(jié)構(gòu)、被配置為輸送流體的冷卻流動(dòng)通道、以及被配置為接納多個(gè)光學(xué)量測(cè)管的多個(gè)光學(xué)量測(cè)端口。

本發(fā)明授權(quán)收集器流動(dòng)環(huán)在權(quán)利要求書中公布了：1.一種收集器流動(dòng)環(huán)殼體，所述收集器流動(dòng)環(huán)殼體被配置為減輕燃料碎屑在極紫外EUV輻射系統(tǒng)中的積聚，所述收集器流動(dòng)環(huán)殼體包括： 多個(gè)噴頭流動(dòng)通道出口，被配置為：在所述收集器流動(dòng)環(huán)殼體的等離子體面向的表面的多個(gè)部分之上輸出多個(gè)第一氣態(tài)流體流動(dòng)； 檐槽清洗流動(dòng)通道出口，被配置為：在所述收集器流動(dòng)環(huán)殼體的燃料碎屑接收表面之上輸出第二氣態(tài)流體流動(dòng)； 護(hù)罩安裝結(jié)構(gòu)，被配置為支持護(hù)罩組裝件； 冷卻流動(dòng)通道，被配置為輸送流體，所述流體被配置為在所述EUV輻射系統(tǒng)的EUV輻射生成操作期間從所述收集器流動(dòng)環(huán)殼體的至少一部分移除熱量；以及 多個(gè)光學(xué)量測(cè)端口，被配置為接納多個(gè)光學(xué)量測(cè)管。

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