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龍圖騰網(wǎng)獲悉紐富來科技股份有限公司申請(qǐng)的專利帶電粒子束描繪方法以及帶電粒子束描繪裝置獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN114981923B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-26發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202180010020.5，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01L21/027；該發(fā)明授權(quán)帶電粒子束描繪方法以及帶電粒子束描繪裝置是由野村春之;中山貴仁設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2021-04-09向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本帶電粒子束描繪方法以及帶電粒子束描繪裝置在說明書摘要公布了：高精度地校正因帶電現(xiàn)象而引起的位置偏移。帶電粒子束描繪方法具備：將上述基板的描繪區(qū)域假想分割為規(guī)定的網(wǎng)格尺寸，計(jì)算表示每個(gè)網(wǎng)格區(qū)域的圖案的配置比例的圖案密度分布的工序；使用上述圖案密度分布計(jì)算劑量分布的工序；使用上述圖案密度分布以及上述劑量分布計(jì)算照射量分布的工序；計(jì)算覆蓋帶電粒子量分布的工序；計(jì)算由直接帶電產(chǎn)生的帶電量分布以及由覆蓋帶電產(chǎn)生的帶電量分布的工序；計(jì)算基于由上述直接帶電產(chǎn)生的帶電量分布以及由上述覆蓋帶電產(chǎn)生的帶電量分布的描繪位置的位置偏移量的工序；使用上述位置偏移量校正照射位置的工序；以及向上述校正后的照射位置照射上述帶電粒子束，以使上述基板的表面的電位比電位規(guī)定部件的下表面的電位高的工序。

本發(fā)明授權(quán)帶電粒子束描繪方法以及帶電粒子束描繪裝置在權(quán)利要求書中公布了：1.一種帶電粒子束描繪方法，通過偏轉(zhuǎn)器使帶電粒子束偏轉(zhuǎn)，通過物鏡對(duì)焦，在工作臺(tái)上的基板描繪圖案，具備： 將上述基板的描繪區(qū)域假想分割為規(guī)定的網(wǎng)格尺寸，計(jì)算表示每個(gè)網(wǎng)格區(qū)域的上述圖案的配置比例的圖案密度分布的工序； 使用上述圖案密度分布計(jì)算表示每個(gè)網(wǎng)格區(qū)域的劑量的劑量分布的工序； 使用上述圖案密度分布以及上述劑量分布計(jì)算向上述基板照射的上述帶電粒子束的照射量分布的工序； 通過對(duì)覆蓋帶電粒子的分布函數(shù)和上述照射量分布進(jìn)行卷積積分來計(jì)算覆蓋帶電粒子量分布的工序； 使用上述圖案密度分布、上述劑量分布以及上述照射量分布計(jì)算由直接帶電產(chǎn)生的帶電量分布，并使用上述覆蓋帶電粒子量分布計(jì)算由覆蓋帶電產(chǎn)生的帶電量分布的工序； 計(jì)算基于由上述直接帶電產(chǎn)生的帶電量分布以及由上述覆蓋帶電產(chǎn)生的帶電量分布的描繪位置的位置偏移量的工序； 使用上述位置偏移量校正照射位置的工序；以及 以使上述基板的表面的電位比配置在與上述基板對(duì)置的位置的電位規(guī)定部件的下表面的電位高的方式向上述基板和上述電位規(guī)定部件的至少任一方施加基于電壓與從描繪圖案的設(shè)計(jì)位置的位置偏移量之間的關(guān)系預(yù)先求出的規(guī)定的電壓而形成電場(chǎng)，并向上述校正后的照射位置照射上述帶電粒子束的工序。

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