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龍圖騰網(wǎng)獲悉合肥鑫晟光電科技有限公司;京東方科技集團(tuán)股份有限公司申請(qǐng)的專利顯示基板及其制造方法、顯示裝置獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN115440783B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-26發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202211201204.2，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H10K59/12；該發(fā)明授權(quán)顯示基板及其制造方法、顯示裝置是由劉軍;周斌;蘇同上;孫濤;馬宇軒;王海東設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2022-09-29向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本顯示基板及其制造方法、顯示裝置在說(shuō)明書摘要公布了：提供了一種顯示基板及其制造方法、顯示裝置，屬于顯示技術(shù)領(lǐng)域。該方法中，首先可以在隔離區(qū)形成沿遠(yuǎn)離襯底的方向依次層疊的金屬膜層和絕緣膜層。然后可以采用一張掩膜板，對(duì)絕緣膜層和部分金屬膜層進(jìn)行第一刻蝕處理，形成第一絕緣層、第一金屬層和覆蓋第一絕緣層和部分第一金屬層側(cè)壁的絡(luò)合物層。再然后可以直接以絡(luò)合物層為遮擋部，對(duì)第一金屬層進(jìn)行第二刻蝕處理，得到上寬下窄具有尖端角的阻隔結(jié)構(gòu)。因在第一刻蝕處理時(shí)，僅刻蝕了厚度較小的部分金屬膜層，故使得僅在第一金屬層的部分側(cè)壁上形成了絡(luò)合物層，進(jìn)而使得可以在不采用掩膜板的基礎(chǔ)上，對(duì)第一金屬層進(jìn)行可靠的第二刻蝕處理，得到良率較好的阻隔結(jié)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)對(duì)外界水汽的可靠阻擋。

本發(fā)明授權(quán)顯示基板及其制造方法、顯示裝置在權(quán)利要求書中公布了：1.一種顯示基板的制作方法，其特征在于，所述方法包括： 提供襯底，所述襯底具有隔離區(qū)； 在所述隔離區(qū)，形成位于所述襯底一側(cè)且沿遠(yuǎn)離所述襯底的方向依次層疊的金屬膜層和絕緣膜層； 沿靠近所述襯底的方向，采用一張掩膜板依次對(duì)所述絕緣膜層和所述金屬膜層中的部分膜層進(jìn)行下述干法刻蝕處理：采用第一刻蝕氣體，對(duì)所述絕緣膜層進(jìn)行干法刻蝕處理，形成第一絕緣層；采用第二刻蝕氣體，對(duì)所述金屬膜層中的部分膜層進(jìn)行干法刻蝕處理，形成第一金屬層，以及覆蓋所述第一絕緣層的側(cè)壁和屬于所述第一金屬層的部分膜層的側(cè)壁的絡(luò)合物層，所述金屬膜層中，所述部分膜層的厚度小于除所述部分膜層外的其余膜層的厚度； 直接以所述絡(luò)合物層為遮擋部，采用刻蝕溶液，對(duì)所述第一金屬層進(jìn)行濕法刻蝕處理，形成第二金屬層，所述第二金屬層靠近所述第一絕緣層的部分的寬度大于遠(yuǎn)離所述第一絕緣層的部分的寬度，且小于所述第一絕緣層的寬度； 去除所述絡(luò)合物層，得到阻隔結(jié)構(gòu)，所述阻隔結(jié)構(gòu)包括所述第二金屬層和所述第一絕緣層。

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