中科九微科技有限公司史曉宇獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉中科九微科技有限公司申請的專利一種半導體零部件的超高潔凈度清洗方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115591855B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-26發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202211256690.8，技術領域涉及：B08B3/12；該發明授權一種半導體零部件的超高潔凈度清洗方法是由史曉宇;樊榮設計研發完成，并于2022-10-13向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種半導體零部件的超高潔凈度清洗方法在說明書摘要公布了：本發明屬于金屬及其制品表面清洗技術領域，尤其涉及一種半導體零部件超高潔凈度清洗技術及其應用。本發明所提供的半導體零部件超高潔凈度清洗技術將超聲清洗及脫脂合二為一，通過在超聲清洗的同時加入清洗劑，同時進行超聲清洗及脫脂，不僅能夠在達到前期超聲清洗的效果，而且能去除了半導體零部件表面的脂質，省卻單獨脫脂步驟；并且在酸蝕及酸洗階段省去了酸蝕步驟，使用更高濃度的硝酸直接對半導體零部件進行清洗，同時達到了酸蝕和硝酸清洗的效果，兩者的改變極大的簡化了工藝步驟和減少了原料的消耗，大大提高了清洗的效率和降低生產成本。
本發明授權一種半導體零部件的超高潔凈度清洗方法在權利要求書中公布了：1.一種半導體零部件超高潔凈度清洗方法，其特征在于，包括以下步驟： 對半導體零部件依次進行超聲脫脂清洗、一次純水溢流清洗、酸洗、二次純水溢流清洗、純水高壓沖洗、熱純水溢流清洗、以及惰性氣體吹干；其中， 所述超聲脫脂清洗步驟使用濃度為12％vv～18％vv的清洗劑，所述清洗劑的成分包括焦磷酸鉀、四硼酸鉀，在所述超聲脫脂清洗步驟中，先將所述半導體零部件置于所述清洗劑中浸泡2～3min，之后再進行超聲清洗5～10min； 所述一次純水溢流和或所述二次純水溢流清洗的時間為2～5min，當純水中的銅含量＞30ppb時更換所述純水， 所述酸洗步驟為使用濃度為50％vv的硝酸水溶液清洗3～5min，在所述酸洗步驟中，當所述硝酸水溶液中的銅含量＞10ppm時更換所述硝酸水溶液。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人中科九微科技有限公司，其通訊地址為：637000 四川省南充市順慶區果城路13號1號樓8樓820室；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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