江南大學熊偉麗獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉江南大學申請的專利一種基于局部遷移建模的青霉素濃度預測方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN116364215B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-26發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202310268736.6,技術領域涉及:G16C60/00;該發明授權一種基于局部遷移建模的青霉素濃度預測方法是由熊偉麗;王肖;馬君霞;周閱昇設計研發完成,并于2023-03-20向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種基于局部遷移建模的青霉素濃度預測方法在說明書摘要公布了:本發明公開了一種基于局部遷移建模的青霉素濃度預測方法,屬于工業發酵生產過程軟測量建模和應用領域。所述方法針對青霉素發酵過程將源域與目標域數據劃分為各子領域,利用偏最小二乘模型判別與各子目標域相關性最大的子源域,并基于遷移成分分析構建子領域間的精細化遷移,減少遷移過程中對局部數據信息的損失,最后在各子領域內建立預測模型,將目標域數據通過建立的模型進行青霉素濃度預測,提高了預測精度。
本發明授權一種基于局部遷移建模的青霉素濃度預測方法在權利要求書中公布了:1.一種基于局部遷移建模的青霉素濃度預測方法,其特征在于,所述方法包括: 步驟1,分別采集青霉素發酵過程中兩種工況下的數據,并分別定義為源域Ds={Xs,Ys}和目標域Dt={Xt};其中源域Ds={Xs,Ys}包括青霉素發酵過程中的輔助變量數據Xs和對應的主導變量數據ys,其中ys作為源域標簽,目標域數據Dt={Xt}僅包括青霉素發酵過程中的輔助變量數據Xt;所述兩種工況中,一種工況為已知的發酵過程,另一種為待預測的發酵過程; 步驟2,使用K均值聚類對源域Ds={Xs,Ys}進行聚類劃分,得到三個子源域Dsj={Xsj,Ysj},j=1,2,3; 步驟3,判斷與每個目標域輔助變量數據xti相關性最高的子源域Dsj; 步驟4,利用測地線流式核對目標域輔助變量數據和與其最相關子源域輔助變量數據進行特征映射: X′sj,x′ti=GFKXsj,xti 其中X′sj、x′ti分別為遷移后的新子源域輔助變量數據與新目標域輔助變量數據; 步驟5,利用偏最小二乘回歸,對遷移后的新子源域輔助變量數據及其青霉素濃度X′sj,Ysj建立軟測量模型,將x′ti帶入到該相關性最高的子源域建立的軟測量模型得到最終預測結果Yt。
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