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龍圖騰網(wǎng)獲悉合肥工業(yè)大學(xué)申請(qǐng)的專利一種復(fù)合ZnFe₂O₄/SiNWs材料及其制備方法和用途獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN116177683B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-26發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202310384498.5，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C02F1/461；該發(fā)明授權(quán)一種復(fù)合ZnFe₂O₄/SiNWs材料及其制備方法和用途是由呂珺;董陽;王應(yīng)強(qiáng);徐光青;吳軍軍;沈王強(qiáng);崔接武;鮑智勇;劉露凡;趙姿媚設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2023-04-12向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本一種復(fù)合ZnFe₂O₄/SiNWs材料及其制備方法和用途在說明書摘要公布了：本發(fā)明公開了一種復(fù)合ZnFe2O4SiNWs材料及其制備方法和用途，所述制備方法采用金屬輔助化學(xué)刻蝕的方法制備硅納米線陣列基底，陣列結(jié)構(gòu)可增強(qiáng)入射光的散射幾率，能夠提高硅基底對(duì)可見光的吸收效率。隨后，利用水熱法合成鐵酸鋅ZnFe2O4納米顆粒，再通過旋涂以及煅燒的方法將ZnFe2O4納米顆粒負(fù)載到硅納米線基底上，形成新型的復(fù)合ZnFe2O4SiNWs光電陽極材料。本發(fā)明中ZnFe2O4和硅納米線陣列基底能形成異質(zhì)結(jié)結(jié)構(gòu)，加快光生載流子的分離和遷移速率，降低光生載流子的復(fù)合概率，從而可有效提高材料的光電性能。

本發(fā)明授權(quán)一種復(fù)合ZnFe₂O₄/SiNWs材料及其制備方法和用途在權(quán)利要求書中公布了：1.一種復(fù)合ZnFe2O4SiNWs材料的制備方法，其特征在于：所述方法包括以下步驟：通過水熱法制得ZnFe2O4納米顆粒，將ZnFe2O4溶解于無水乙醇中，制備成ZnFe2O4乙醇溶液，然后將ZnFe2O4乙醇溶液依次通過旋涂和煅燒的方法負(fù)載于SiNWs表面，得到所述ZnFe2O4SiNWs光電陽極材料； 其中，制備ZnFe2O4納米顆粒的前驅(qū)體試劑9.5～10.5mmol的FeNO33·9H2O、5～6mmol的ZnNO32·6H2O及50～60mL去離子水的混合液，并用1molLNaOH溶液調(diào)節(jié)混合液的pH至12； 水熱反應(yīng)溫度為160～200℃，水熱反應(yīng)時(shí)間為12～18h； ZnFe2O4乙醇溶液的濃度為0.25～1mgmL； 旋涂過程中旋轉(zhuǎn)速率為500～1000轉(zhuǎn)每分鐘，旋轉(zhuǎn)時(shí)間為30～60s，1*1cm的SiNWs旋涂體積為100～150μL； 煅燒溫度為200～300℃，保溫時(shí)間為2～3h，煅燒在氮?dú)鈿夥障逻M(jìn)行。

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