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龍圖騰網獲悉中國原子能科學研究院申請的專利一種水冷系統與真空夾持系統共用空間的靶站結構獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN116847528B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-26發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202310519120.1，技術領域涉及：H05H6/00；該發明授權一種水冷系統與真空夾持系統共用空間的靶站結構是由趙黎杰;宋國芳;邢建升;冀魯豫;凌麗設計研發完成，并于2023-05-09向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種水冷系統與真空夾持系統共用空間的靶站結構在說明書摘要公布了：本發明公開了一種水冷系統與真空夾持系統共用空間的靶站結構，包括靶架、靶基、真空夾持機構、直線氣缸、水冷管道；其特點是：所述真空夾持機構設有一對”L”型通孔，該一對”L”型通孔向下通向靶基上表面的水槽，該一對”L”型通孔和靶基上表面的水槽緊密貼合形成了分時占用且共用的密封空間，該分時占用且共用的密封空間為抽真空空間和水冷空間。本發明將真空加持頭內的“L”型通道、靶基上的“船”型水槽、以及分別布設在真空加持頭和靶基上的密封圈有機結合起來，形成了一個密閉的水冷通道和密閉的抽真空通道、將靶站整體高度降低將近二分之一，并且結構簡化、減少成本和物料、減少錯誤發生率。

本發明授權一種水冷系統與真空夾持系統共用空間的靶站結構在權利要求書中公布了：1.一種水冷系統與真空夾持系統共用空間的靶站結構，該靶站結構從下至上設有：靶架（5）、靶基（1）、真空夾持機構（2）、直線氣缸（3）、水冷管道（4）；所述靶基（1）用于提供束流打在靶基（1）上所需要的靶材、靶材布設在靶基的下表面；所述靶架（5）用于為靶基提供傾斜的支架、使得束流從靶架（5）兩側穿過時束流打在靶基傾斜底面的靶材上，從而生產同位素；所述真空夾持機構（2）用于吸附靶基，當水冷和抽真空結束后，該真空夾持機構（2）在直線氣缸（3）的作用下吸附靶基一起轉移到靶架以外的熱室中； 其特征在于：所述真空夾持機構（2）設有一對”L”型通孔，該一對”L”型通孔向下通向靶基（1）上表面的水槽，該一對”L”型通孔和靶基（1）上表面的水槽緊密貼合形成了分時占用且共用的密封空間，該分時占用且共用的密封空間為抽真空空間和水冷空間，該分時占用且共用的密封空間使得靶站的整體高度下降了將近二分之一； 所述一對”L”型通孔，分別沿著該真空夾持機構（2）的兩個軸對稱側面由外到內、由前到后、由上到下穿入，并貫穿到真空夾持機構（2）的下表面，使得一對”L”型通孔的水通過其下表面的通孔流向與其緊密貼合的靶基（1）的水槽。

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