東莞市科盛機電設備有限公司;深圳市科和盛業技術有限公司李細柳獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉東莞市科盛機電設備有限公司;深圳市科和盛業技術有限公司申請的專利一種磁控濺射設備獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN116837334B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-26發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202310740994.X，技術領域涉及：C23C14/35；該發明授權一種磁控濺射設備是由李細柳;朱正堯設計研發完成，并于2023-06-20向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種磁控濺射設備在說明書摘要公布了：本發明公開了一種磁控濺射設備；包括濺射組件和偏壓組件；濺射組件設置有兩個，兩個濺射組件相對設置，兩個濺射組件的一側設置偏壓組件；濺射組件連接負極電源，偏壓組件連接正極電源，偏壓組件用于將濺射組件產生的濺射離子排斥到基材上。在濺射組件在進行濺射時，會同時具有濺射離子、濺射分子團和電子。相對設置的濺射組件將其產生的濺射離子、濺射分子團和電子向中間區域濺射，偏壓組件將濺射離子排斥到基材上，將電子吸引到偏壓組件上，濺射分子團留在兩個濺射組件之間的區域內。由此即可只將濺射離子轟擊到基材上，而避免濺射分子團和電子轟擊到基材上，確保鍍膜的均勻性，提高鍍膜質量，減少基材溫度升高的幅度。
本發明授權一種磁控濺射設備在權利要求書中公布了：1.一種磁控濺射設備，其特征在于，包括濺射組件和偏壓組件，所述濺射組件和偏壓組件設置在殼體內；所述濺射組件設置有兩個，兩個所述濺射組件相對設置，兩個所述濺射組件的一側設置所述偏壓組件；所述濺射組件連接負極電源，所述偏壓組件連接正極電源，所述偏壓組件用于將所述濺射組件產生的濺射離子排斥到基材上； 所述濺射組件包括有陽極件、濺射絕緣件、磁性件和靶材，所述陽極件圍設在所述濺射絕緣件、磁性件和靶材的外圍，所述濺射絕緣件、磁性件和靶材在所述陽極件內從外向內依次設置，所述磁性件連接負極電源，所述陽極件連接正極電源； 所述偏壓組件與所述基材平行，所述靶材垂直于所述偏壓組件和基材。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人東莞市科盛機電設備有限公司;深圳市科和盛業技術有限公司，其通訊地址為：523000 廣東省東莞市長安鎮長安新民路189號8號樓103室；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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