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龍圖騰網獲悉北京航空航天大學申請的專利可控型噴霧液滴高效冷卻換熱實驗平臺獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN116618111B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-26發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202310850351.0，技術領域涉及：B01L9/02；該發明授權可控型噴霧液滴高效冷卻換熱實驗平臺是由高軒;李雨航;李海旺;陶智;撖天宇;高旭設計研發完成，并于2023-07-12向國家知識產權局提交的專利申請。

本可控型噴霧液滴高效冷卻換熱實驗平臺在說明書摘要公布了：本發明公開了可控型噴霧液滴高效冷卻換熱實驗平臺，包括液滴發生裝置，多組壓電式液滴發生器可實現液滴串陣列；位于壓電式液滴發生器工藝下游端的薄膜加熱器，薄膜加熱器采用磁控濺射工藝制備，所述薄膜加熱器以500μm后的雙拋硅片為基材，并在基材上以磁控濺射工藝磁控濺射金屬鉑膜；以及光學成像及測溫系統。本發明的實驗平臺基于多組壓電式液滴發生器而設計，從溫場流場都可以進行捕捉和精準測量，先進的液滴發生器實現了現有單組液滴所不具備的液滴流量同時還可以兼顧精度和調控性，通過設計的微芯片薄膜加熱器減小了電阻誤差和實驗誤差，熱損低于1％，該實驗平臺對于探究液滴物理場以及連續液滴高效換熱領域有重要影響。

本發明授權可控型噴霧液滴高效冷卻換熱實驗平臺在權利要求書中公布了：1.可控型噴霧液滴高效冷卻換熱實驗平臺，其特征在于，該實驗平臺包括： 液滴發生裝置，所述液滴發生裝置包括恒溫水浴箱（1）、以及與該恒溫水浴箱（1）連通的壓電式液滴發生器（4），多個所述壓電式液滴發生器（4）陣列排布； 位于所述壓電式液滴發生器（4）工藝下游端的薄膜加熱器（9），所述薄膜加熱器（9）采用磁控濺射工藝制備，所述薄膜加熱器（9）以500μm厚的雙拋硅片為基材，并在基材上以磁控濺射工藝磁控濺射金屬鉑膜；以及 光學成像及測溫系統； 所述光學成像及測溫系統通過紅外照相機（11）采集薄膜加熱器（9）的溫度數據，并將采集的照片傳輸至計算機（15）得出時間平均溫場，通過Matlab代碼進行時間平均溫場后處理以得到溫場云圖； 所述薄膜加熱器（9）的磁控濺射加熱層的工藝流程主要包括以下步驟： S101、切割出尺寸為14mm*14mm的雙拋硅片，將上下兩邊用棕膜進行掩膜，形成為14mm*10mm的金屬濺射區域； S102、開啟冷卻水，將腔室大門鎖扣倒置，然后開啟放氣閥放氣，開啟流量計面板通道“ON”，開啟導氣閥并清洗導氣管，等待真空抽到5.0*101pa后，打開電磁閥，打開擋板控制器，等到真空抽到1.9*101pa后運行分子泵，待分子泵面板顯示轉速后關閉粗抽閥，開高閥到最大位置，真空普遍抽到5.0*10-3pa或3.0*10-3pa開始鍍膜實驗； S103、開啟轉盤，首先要鍍金屬鉻薄膜，開啟熱控制器設置80℃的基板溫度，鉻金屬靶材直徑為10cm，濺射氣壓設置為0.2pa，在對應的靶上部安裝磁控濺射電源，開啟磁控濺射電源，保持擋板關閉，通過旋鈕調節功率值，進行預濺射，功率值設置為200-400w以采用高功率濺射，濺射時間為50-120s，在硅片上得到50nm以下厚的鉻膜為連接層； S104、鉻膜為連接鉑層和半導體硅的關鍵結合膜，在完成鉻膜沉積后濺射氣壓不變，基板溫度不變，功率改為150-300w，濺射鉑層時間為90s，完成后用四探針測量法測得電阻為7Ωcm2，測量值同批電阻值誤差在0.05Ω以內； S105、將雙拋硅片再次進行掩膜，掩膜遮住中心鉑層區域10mm*10mm，進行S103步驟進行磁控濺射金薄膜，濺射氣壓設置為0.3pa，功率設置為50-150w，時間為10min，薄膜厚度為500nm； 所述薄膜加熱器（9）具有PCB電路板（16）； 所述PCB電路板（16）整體尺寸為1.8cm*1.8cm，且所述PCB電路板（16）中間采用V型切割以形成尺寸為1.3cm*1.3cm的切割槽； 所述PCB電路板（16）具有四條長方形pad（1601），兩條靠近所述PCB電路板（16）外側的所述pad（1601）的寬度為500μm，兩條靠近所述PCB電路板（16）內側的所述pad（1601）的寬度為200μm，所述pad（1601）覆銅厚度為1oz以上； 所述PCB電路板（16）和磁控濺射加熱層的焊接封裝工藝為： 將PCB電路板（16）先與磁控濺射加熱層用導電銀膠粘結，然后采用金線鍵合工藝進行磁控濺射加熱層與PCB的封裝，兩邊各通過多根25μm金線進行封裝。

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