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龍圖騰網獲悉信息產業電子第十一設計研究院科技工程股份有限公司申請的專利一種處理集成電路行業氨氮與有機廢水的裝置及方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN117164171B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-26發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202311366106.9，技術領域涉及：C02F9/00；該發明授權一種處理集成電路行業氨氮與有機廢水的裝置及方法是由陳效堂;高孟達;王宇軒設計研發完成，并于2023-10-20向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種處理集成電路行業氨氮與有機廢水的裝置及方法在說明書摘要公布了：本發明公開了一種處理集成電路行業氨氮與有機廢水的裝置及方法；裝置包括如下：SBR反應器、UASB反應器、水解酸化池、活性炭吸附塔、氨氮廢水集水池、第一調節池、第二調節池、生活污水與有機廢水集水池、WTW、氨氮亞氮在線測定儀、H2O2在線測定儀、COD在線測定儀、曝氣泵、轉子流量計、第一進水泵、第二進水泵、第三進水泵、第四進水泵、第五進水泵、第六進水泵、PLC自動控制系統；本發明具有如下優點：1.總氮以及有機物去除率高，碳源需求量以及曝氣量低，污泥產量低，更加綠色節能。2.可同時處理半導體行業三類廢水（氨氮廢水、有機廢水和生活廢水），占地面積小。3.采用了泥膜共生法，其抵抗微生物毒性廢水負荷沖擊能力強，更加穩定。

本發明授權一種處理集成電路行業氨氮與有機廢水的裝置及方法在權利要求書中公布了：1.一種處理集成電路行業氨氮與有機廢水的方法，其特征在于，包括以下幾個步驟： 氨氮廢水中含有較高濃度的H2O2以及較低濃度的有毒有害物質，這會對生物反應器中微生物產生毒性；首先，氨氮廢水先經過活性炭吸附塔（4）進入第一調節池（6），在該調節池內監測H2O2濃度以及對廢水pH進行調節；同時，為了提高廢水的可生化性，將生活污水與有機廢水合并收集后，進入水解酸化池（3）將難以生物降解的大分子有機物降解為易生物降解的小分子有機物，在線COD測定儀不斷監測水解酸化池中COD濃度； 下一步，第一調節池（6）內的氨氮廢水與水解酸化池（3）內的廢水進入SBR反應器（1），發生短程硝化和反硝化，進行氮轉化與氮去除以及有機物去除； 過程包括：進水、反應、沉淀、排水和閑置； 下一步，經過SBR反應器（1）處理后的水排入第二調節池（7）；同時，第一調節池（6）內的廢水也進入第二調節池（7）提供氨氮； 第二調節池內完成監測氨氮與亞氮濃度、調節pH以及投加NaHCO3； 下一步，第二調節池（7）內的廢水進入UASB反應器進行厭氧氨氧化與反硝化，完成進一步脫氮； 詳細的，SBR反應器的接種污泥為，傳統生化法處理集成電路氨氮廢水過程中的硝化污泥，污泥呈灰褐色；污泥接種后，MLSS=3500～4000mgL，MLVSSMLSS=0.5～0.7；UASB反應器的接種污泥為，65%～70%穩定運行厭氧氨氧化母反應器的顆粒污泥以及35%～40%反硝化污泥； 厭氧氨氧化污泥呈暗紅色，粒徑0.8～2.4mm，反硝化污泥呈黑褐色，接種后MLSS=4500～7000mgL； SBR反應器運行過程與參數為：控制第一調節池（6）內氨氮廢水與水解酸化池（3）內廢水的進水量，維持進水后的碳氮比為5～10；進水后，先進行60～90min缺氧攪拌，目的是反硝化去除上階段殘余的硝態氮、亞硝態氮和COD；接下來，曝氣泵開啟，好氧期間的DO濃度維持在1.5～3.5mgL，時間為120min～240min；目的是實現短程硝化，將氨氮轉化為硝氮，同時去除有機物COD； 此工藝實現短程硝化的原理是低DO抑制NOB； 接下來進行60～90min的缺氧攪拌，目的是進一步去除COD以及亞氮，另外，缺氧的目的是完全去除出水DO，減少對厭氧氨氧化的副作用；反應結束后，沉淀25～35min后排水，排水比例50%～65%； UASB反應器運行過程與參數為：接種污泥后，不斷縮短水力停留時間使污泥逐漸適應污水水質并發生厭氧氨氧化和反硝化反應，HRT=5～16h。

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