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龍圖騰網(wǎng)獲悉杭州睿影科技有限公司申請(qǐng)的專利數(shù)據(jù)處理方法及圖像校正方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN120182147B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-26發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202510645800.7，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G06T5/80；該發(fā)明授權(quán)數(shù)據(jù)處理方法及圖像校正方法是由鄧佳維設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2025-05-20向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本數(shù)據(jù)處理方法及圖像校正方法在說(shuō)明書(shū)摘要公布了：本申請(qǐng)公開(kāi)了一種數(shù)據(jù)處理方法及圖像校正方法，涉及圖像處理技術(shù)領(lǐng)域，其中數(shù)據(jù)處理方法包括：獲取安檢機(jī)的散射刻度數(shù)據(jù)，安檢機(jī)中用來(lái)探測(cè)的X射線通過(guò)X射線光縫發(fā)射，并經(jīng)由包裹通道照射于探測(cè)器，散射刻度數(shù)據(jù)用于表征安檢機(jī)中X射線照射于探測(cè)器的不同位置的探測(cè)像素時(shí)，對(duì)其他位置的探測(cè)像素所產(chǎn)生的散射量；基于散射刻度數(shù)據(jù)，擬合生成探測(cè)器中所有位置的探測(cè)像素的目標(biāo)對(duì)應(yīng)關(guān)系，目標(biāo)對(duì)應(yīng)關(guān)系用于表征不同位置的探測(cè)像素受到X射線照射于其他位置的探測(cè)像素時(shí)所產(chǎn)生的散射量占X射線的總光強(qiáng)的比例。本申請(qǐng)通過(guò)實(shí)驗(yàn)刻度的方式生成目標(biāo)對(duì)應(yīng)關(guān)系，便于更準(zhǔn)確地確定不同位置的探測(cè)像素所受到的散射量，有助于后續(xù)更準(zhǔn)確地校正圖像。

本發(fā)明授權(quán)數(shù)據(jù)處理方法及圖像校正方法在權(quán)利要求書(shū)中公布了：1.一種數(shù)據(jù)處理方法，其特征在于，所述方法包括： 獲取安檢機(jī)的散射刻度數(shù)據(jù)；其中，所述安檢機(jī)中用來(lái)探測(cè)的X射線通過(guò)X射線光縫發(fā)射，并經(jīng)由包裹通道照射于探測(cè)器，所述散射刻度數(shù)據(jù)用于表征所述安檢機(jī)中X射線照射于所述探測(cè)器的不同位置的探測(cè)像素時(shí)，對(duì)其他位置的探測(cè)像素所產(chǎn)生的散射量； 基于所述散射刻度數(shù)據(jù)，擬合生成所述探測(cè)器中所有位置的探測(cè)像素的目標(biāo)對(duì)應(yīng)關(guān)系；其中，所述目標(biāo)對(duì)應(yīng)關(guān)系用于表征不同位置的探測(cè)像素受到X射線照射于其他位置的探測(cè)像素時(shí)所產(chǎn)生的散射量占X射線的總光強(qiáng)的比例； 其中，所述獲取安檢機(jī)的散射刻度數(shù)據(jù)的步驟，包括： 在所述安檢機(jī)的包裹通道上設(shè)置有測(cè)試板、且通過(guò)移動(dòng)所述測(cè)試板使所述探測(cè)器接收到不同寬度的X射線的情況下，測(cè)量所有位置的探測(cè)像素在接收到不同寬度的X射線時(shí)的光照強(qiáng)度；其中，所述測(cè)試板用于遮擋所述X射線不照射至所述探測(cè)器的至少部分位置的探測(cè)像素； 將接收到相同寬度X射線時(shí)所有位置的探測(cè)像素的光照強(qiáng)度劃分為一組數(shù)據(jù)； 對(duì)于每一組數(shù)據(jù)，將所有探測(cè)像素的光照強(qiáng)度分別與預(yù)設(shè)值進(jìn)行比較，確定沿未被測(cè)試板遮擋向被測(cè)試板遮擋的方向上光照強(qiáng)度小于所述預(yù)設(shè)值的第一個(gè)探測(cè)像素為被所述測(cè)試板邊緣遮擋的目標(biāo)探測(cè)像素，并將被測(cè)試板遮擋的方向上、且與所述目標(biāo)探測(cè)像素間隔M個(gè)探測(cè)像素外的其他探測(cè)像素的光照強(qiáng)度作為對(duì)應(yīng)探測(cè)像素的散射量，M為大于或等于1的整數(shù)； 將每一組數(shù)據(jù)中所有位置的探測(cè)像素的光照強(qiáng)度或散射量，作為所述安檢機(jī)的散射刻度數(shù)據(jù)； 或者， 所述獲取安檢機(jī)的散射刻度數(shù)據(jù)的步驟，包括： 在所述安檢機(jī)的包裹通道上設(shè)置有測(cè)試板、且通過(guò)移動(dòng)所述測(cè)試板使所述探測(cè)器接收到相同寬度但位于不同位置的X射線的情況下，測(cè)量所有位置的探測(cè)像素在接收到相同寬度但位于不同位置的X射線時(shí)的光照強(qiáng)度；其中，所述測(cè)試板用于遮擋所述X射線不照射至所述探測(cè)器的至少部分位置的探測(cè)像素； 將接收到相同寬度X射線、且位于相同位置時(shí)所有位置的探測(cè)像素的光照強(qiáng)度劃分為一組數(shù)據(jù)； 對(duì)于每一組數(shù)據(jù)中的每一個(gè)探測(cè)像素，若所述探測(cè)像素的光照強(qiáng)度小于預(yù)設(shè)值，則將所述光照強(qiáng)度作為所述探測(cè)像素的散射量； 將每一組數(shù)據(jù)中所有位置的探測(cè)像素的光照強(qiáng)度或散射量，作為所述安檢機(jī)的散射刻度數(shù)據(jù)。

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