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龍圖騰網獲悉寧波東方理工大學(暫名)申請的專利一種基于反卷積的全聚焦法超分辨率成像方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN120355809B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-26發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510852785.3，技術領域涉及：G06T11/00；該發明授權一種基于反卷積的全聚焦法超分辨率成像方法是由楊永超;李庭堅;黎善武;成利;單勝博設計研發完成，并于2025-06-24向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種基于反卷積的全聚焦法超分辨率成像方法在說明書摘要公布了：本發明公開了一種基于反卷積的全聚焦法超分辨率成像方法，涉及全聚焦法超分辨率成像技術領域，具體包括：步驟一、基于全矩陣采集模式進行數據采集，采用全聚焦法進行初始圖像重建，步驟二、通過分析成像系統的點擴散函數，建立物理卷積模型以描述成像過程中的模糊效應，步驟三、以最小化成像誤差為目標，通過引入稀疏約束，促進重建圖像中僅在實際存在缺陷的位置產生非零反應，抑制背景噪聲與偽影，本發明以傳統的全聚焦法為基礎，融合稀疏優化思想，通過引入點擴散函數建模成像過程，并利用快速迭代閾值法對缺陷分布進行稀疏反卷積求解，為導波超聲成像提供一種具有物理依據、魯棒性強、計算效率高的超分辨率成像方案。

本發明授權一種基于反卷積的全聚焦法超分辨率成像方法在權利要求書中公布了：1.一種基于反卷積的全聚焦法超分辨率成像方法，其特征在于，包括： 步驟一、基于全矩陣采集模式進行數據采集，采用全聚焦法進行初始圖像重建； 步驟二、通過分析成像系統的點擴散函數，建立物理卷積模型以描述成像過程中的模糊效應； 在實驗或仿真數據中，設定散射體中心與最近其他散射體的距離為d，距離滿足d≥2PSF時，判斷該散射體滿足孤立性，PSF為系統理論分辨率，設定散射體中心幅值為a，幅值滿足a≥3bac時，判斷該散射體滿足強烈性，選取孤立且強烈的單個散射回波區域，以該區域的中心為原點，截取周圍一小塊成像子區域，該子區域內的幅值或能量分布直接作為點擴散的數值表達，基于陣列幾何參數、波速信息和激勵信號特性，通過理論推導系統的空間響應函數，得到預期的點擴散函數模式，采用二維高斯分布或Airy盤函數對點擴散函數進行擬合，通過擬合公式得到的PSF矩陣，為成像系統針對點源的完整響應模型； 步驟三、以最小化成像誤差為目標，通過引入稀疏約束，促進重建圖像中僅在實際存在缺陷的位置產生非零反應，抑制背景噪聲與偽影。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人寧波東方理工大學(暫名)，其通訊地址為：315200 浙江省寧波市鎮海區莊市街道同心路568號開元新青年廣場2號樓；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。