科磊股份有限公司R·弗克維奇獲國家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)獲悉科磊股份有限公司申請的專利使用組合光學(xué)與電子束技術(shù)的偏移測量獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN113366619B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-22發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：201980091117.6，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01L21/66；該發(fā)明授權(quán)使用組合光學(xué)與電子束技術(shù)的偏移測量是由R·弗克維奇;L·葉魯舍米;N·古特曼設(shè)計研發(fā)完成，并于2019-06-04向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。
本使用組合光學(xué)與電子束技術(shù)的偏移測量在說明書摘要公布了：本發(fā)明揭示一種用于制造半導(dǎo)體裝置晶片的偏移計量系統(tǒng)，其包含：光學(xué)偏移計量工具，其經(jīng)配置以測量選自旨在相同的一批半導(dǎo)體裝置晶片的半導(dǎo)體裝置的兩個層之間的至少一個目標(biāo)處的偏移；電子束偏移計量工具，其經(jīng)配置以測量選自所述批的半導(dǎo)體裝置的兩個層之間的所述至少一個目標(biāo)處的偏移；及組合器，其可操作以組合所述光學(xué)偏移計量工具及所述電子束偏移計量工具的輸出以提供組合偏移度量。
本發(fā)明授權(quán)使用組合光學(xué)與電子束技術(shù)的偏移測量在權(quán)利要求書中公布了：1.一種用于制造半導(dǎo)體裝置晶片的偏移計量系統(tǒng)，其包括： 光學(xué)偏移計量工具，其經(jīng)配置以測量選自旨在相同的一批半導(dǎo)體裝置晶片的半導(dǎo)體裝置的兩個層之間的至少一個目標(biāo)處的偏移； 電子束偏移計量工具，其經(jīng)配置以測量選自所述批的半導(dǎo)體裝置的兩個層之間的所述至少一個目標(biāo)處的偏移；及 組合器，其用于組合所述光學(xué)偏移計量工具及所述電子束偏移計量工具的輸出以提供組合偏移度量，其中所述光學(xué)偏移計量工具及所述電子束偏移計量工具的所述輸出是在同一制造過程中測量的。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人科磊股份有限公司，其通訊地址為：美國加利福尼亞州；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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1、本報告根據(jù)公開、合法渠道獲得相關(guān)數(shù)據(jù)和信息，力求客觀、公正，但并不保證數(shù)據(jù)的最終完整性和準(zhǔn)確性。
2、報告中的分析和結(jié)論僅反映本公司于發(fā)布本報告當(dāng)日的職業(yè)理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔(dān)任何法律責(zé)任的依據(jù)或者憑證。
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