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龍圖騰網(wǎng)獲悉普賽昆騰公司申請的專利利用后道工藝的集成波導(dǎo)式探測器的隔離獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN113519057B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-22發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：201980081565.8，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H10F39/12；該發(fā)明授權(quán)利用后道工藝的集成波導(dǎo)式探測器的隔離是由埃里克·達德利;梁勇;法拉·納杰菲;維馬爾·卡米尼尼;安·梅里尼丘克設(shè)計研發(fā)完成，并于2019-10-25向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本利用后道工藝的集成波導(dǎo)式探測器的隔離在說明書摘要公布了：一種光學(xué)器件，包括：襯底、在襯底上的電介質(zhì)層、在電介質(zhì)層內(nèi)的波導(dǎo)、在電介質(zhì)層中并且耦合至波導(dǎo)的光敏部件例如，光電探測器、以及在襯底或電介質(zhì)層的至少一者中的并且被配置成防止雜散光到達光敏部件的多個光隔離結(jié)構(gòu)。在一些實施例中，多個光隔離結(jié)構(gòu)中的光隔離結(jié)構(gòu)包括兩個相對側(cè)壁和兩個相對側(cè)壁之間的填充材料。所述兩個相對側(cè)壁包括光學(xué)隔離層。所述填充材料由與襯底或電介質(zhì)層中的至少一者的熱膨脹系數(shù)匹配的熱膨脹系數(shù)表征。

本發(fā)明授權(quán)利用后道工藝的集成波導(dǎo)式探測器的隔離在權(quán)利要求書中公布了：1.一種光子集成電路器件，包括： 襯底； 在所述襯底上的電介質(zhì)層； 在所述電介質(zhì)層內(nèi)的波導(dǎo)； 在所述電介質(zhì)層中的并且耦合至所述波導(dǎo)的光敏部件；和 在所述襯底和所述電介質(zhì)層中的并且鄰近于所述光敏部件的多個光隔離結(jié)構(gòu)，所述多個光隔離結(jié)構(gòu)被配置成反射或吸收雜散光，以防止所述雜散光到達所述光敏部件；并且 所述多個光隔離結(jié)構(gòu)包括：處于所述襯底中的第一光隔離結(jié)構(gòu)以及處于所述電介質(zhì)層中的第二光隔離結(jié)構(gòu)； 所述第一光隔離結(jié)構(gòu)中的填充材料由與所述襯底的熱膨脹系數(shù)匹配的熱膨脹系數(shù)表征； 所述第二光隔離結(jié)構(gòu)中的填充材料的熱膨脹系數(shù)與所述電介質(zhì)層的熱膨脹系數(shù)匹配；以及 所述第一光隔離結(jié)構(gòu)與所述第二光隔離結(jié)構(gòu)對準或偏移。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人普賽昆騰公司，其通訊地址為：美國加利福尼亞州；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。