株式會社富士伊藤俊輔獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉株式會社富士申請的專利基于等離子體的處理的處理條件決定方法及處理條件決定裝置獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115804249B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-22發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202080102821.X，技術領域涉及：H05H1/32；該發明授權基于等離子體的處理的處理條件決定方法及處理條件決定裝置是由伊藤俊輔;神藤高廣設計研發完成，并于2020-08-18向國家知識產權局提交的專利申請。
本基于等離子體的處理的處理條件決定方法及處理條件決定裝置在說明書摘要公布了：基于等離子體的處理的處理條件決定方法包含如下的工序：照射工序，使頭在相對于對象物保持預定的目標距離的狀態下以預定的目標速度移動，并且從頭向對象物的表面照射等離子體；測定工序，測定執行了照射工序之后的對象物的表面狀態；計算工序，反復執行照射工序和測定工序，根據直到對象物的表面狀態飽和為止所需的照射工序的執行次數，計算通過執行一次照射工序而使對象物的表面狀態飽和所需的必要速度；及決定工序，將必要速度決定為頭的處理速度。
本發明授權基于等離子體的處理的處理條件決定方法及處理條件決定裝置在權利要求書中公布了：1.一種基于等離子體的處理的處理條件決定方法，包含如下的工序： 照射工序，使頭在相對于對象物而保持預定的目標距離的狀態下以預定的目標速度移動，并且從所述頭向所述對象物的表面照射等離子體； 測定工序，測定執行了所述照射工序之后的所述對象物的表面狀態； 計算工序，反復執行所述照射工序和所述測定工序，根據直到所述對象物的表面狀態飽和為止所需的所述照射工序的執行次數，計算通過執行一次所述照射工序而使所述對象物的表面狀態飽和所需的必要速度；及 決定工序，將所述必要速度決定為所述頭的處理速度。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人株式會社富士，其通訊地址為：日本愛知縣知立市；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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