ASML荷蘭有限公司G·因龐特獲國家專利權(quán)

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龍圖騰網(wǎng)獲悉ASML荷蘭有限公司申請的專利檢測輻射束的光刻設(shè)備和方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN114450636B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-22發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202080067173.9，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G03F7/20；該發(fā)明授權(quán)檢測輻射束的光刻設(shè)備和方法是由G·因龐特;W·J·恩格倫;N·W·M·普蘭茨設(shè)計研發(fā)完成，并于2020-09-01向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本檢測輻射束的光刻設(shè)備和方法在說明書摘要公布了：一種被配置為保持襯底的襯底臺，包括：多個傳感器元件，被配置為檢測來自投影系統(tǒng)的輻射束，輻射束形成在襯底水平具有細長形狀的照射區(qū)域，細長形狀具有長邊緣和短邊緣并且限定縱向方向和垂直于縱向方向的橫向方向，傳感器元件沿著縱向方向布置，其中多個傳感器元件被布置為在橫向方向上與細長形狀的長邊緣中的一個相距不同距離。

本發(fā)明授權(quán)檢測輻射束的光刻設(shè)備和方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種襯底臺，被配置為保持襯底，所述襯底臺包括：多個傳感器元件，被配置為檢測來自投影系統(tǒng)的輻射束，所述輻射束形成在襯底水平處具有細長形狀的照射區(qū)域，所述細長形狀具有長邊緣和短邊緣，并且限定縱向方向和垂直于所述縱向方向的橫向方向，所述傳感器元件沿著所述縱向方向布置，其中所述多個所述傳感器元件被布置為在所述橫向方向上與所述細長形狀的所述長邊緣中的一個長邊緣相距不同距離；其中所述傳感器元件中的至少一個在所述橫向方向上從所述細長形狀的所述長邊緣中的所述一個長邊緣朝向第一側(cè)偏移，并且所述傳感器元件中的至少一個在所述橫向方向上從所述細長形狀的所述長邊緣中的所述一個長邊緣朝向第二側(cè)偏移，所述第二側(cè)和所述第一側(cè)是所述長邊緣中的所述一個長邊緣的相對側(cè)。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人ASML荷蘭有限公司，其通訊地址為：荷蘭維德霍溫；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。

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