株式會社國際電氣西田圭吾獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉株式會社國際電氣申請的專利清潔方法、半導體器件的制造方法、襯底處理裝置及記錄介質獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114121714B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-22發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202110650848.9，技術領域涉及：H01L21/67；該發明授權清潔方法、半導體器件的制造方法、襯底處理裝置及記錄介質是由西田圭吾;石黑謙一;尾崎貴志設計研發完成，并于2021-06-10向國家知識產權局提交的專利申請。
本清潔方法、半導體器件的制造方法、襯底處理裝置及記錄介質在說明書摘要公布了：本申請涉及清潔方法、半導體器件的制造方法、襯底處理裝置及記錄介質。提高處理容器內的清潔效果。具有通過將包含下述工序的循環在第1溫度下進行規定次數從而將附著于處理容器內的物質除去的工序：a向進行針對襯底的處理后的處理容器內供給含氮及氫氣體和含氟氣體中的一種氣體的工序；和b向殘留有一種氣體的狀態的處理容器內供給含氮及氫氣體和含氟氣體中的與一種氣體不同的另一種氣體的工序。
本發明授權清潔方法、半導體器件的制造方法、襯底處理裝置及記錄介質在權利要求書中公布了：1.清潔方法，其為處理容器內的清潔方法，具有通過將包含下述工序的循環在第1溫度下進行規定次數從而將附著于所述處理容器內的物質除去的工序： a向進行針對襯底的處理后的所述處理容器內供給含氮及氫氣體和含氟氣體中的一種氣體的工序；和 b向殘留有所述一種氣體的狀態的所述處理容器內供給所述含氮及氫氣體和所述含氟氣體中的與所述一種氣體不同的另一種氣體的工序， 其中，b具有下述工序： b1在使所述處理容器內的排氣停止的狀態下，向所述處理容器內供給所述另一種氣體的工序；和 b2在對所述處理容器內實施排氣的狀態下，向所述處理容器內供給所述另一種氣體的工序。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人株式會社國際電氣，其通訊地址為：日本東京都；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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