暨南大學周常河獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉暨南大學申請的專利用于1053nm波段的偏振無關的高效寬帶金屬介電雙層光柵獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN116184545B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-22發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202111420982.6,技術領域涉及:G02B5/18;該發明授權用于1053nm波段的偏振無關的高效寬帶金屬介電雙層光柵是由周常河;金戈設計研發完成,并于2021-11-26向國家知識產權局提交的專利申請。
本用于1053nm波段的偏振無關的高效寬帶金屬介電雙層光柵在說明書摘要公布了:本發明公開了一種用于1053nm波段的偏振無關的高效寬帶金屬介電雙層光柵,由上至下分別是:由兩層高折射率介質層組成的光柵脊、光柵匹配層、金屬反射鏡和光柵基底,金屬介電雙層光柵的任意層均為長方體結構。該介電雙層光柵的周期為:700?750nm,占空比為:0.4?0.48。金屬反射鏡的厚度大于金屬的趨膚深度。當TE或者TM偏振光以利特羅角入射時,其?1級平均衍射效率在1000?1100nm波段超過98%,且偏振相關損耗在整個波段上的平均值為0.016dB。本發明可以由電子束直寫裝置與微電子深刻蝕加工而成,結構簡易,容差大,適合大規模制造,可適用于光譜合束和脈沖壓縮系統。
本發明授權用于1053nm波段的偏振無關的高效寬帶金屬介電雙層光柵在權利要求書中公布了:1.一種用于1053nm波段的偏振無關的高效寬帶的金屬介電雙層光柵,其特征在于,所述金屬介電雙層光柵由上至下分別是:由兩層高折射率介質層組成的光柵脊、光柵匹配層、金屬反射鏡和光柵基底,其中,金屬介電雙層光柵的任意層均為長方體結構;所述光柵脊為由上至下設置的光柵第一層和光柵第二層; 所述金屬介電雙層光柵的周期為727.6nm,金屬介電雙層光柵的入射角為利特羅角,利特羅角為46.35°;光柵第一層為厚度h1=225.7nm、折射率n1=2.29的ZnS層,光柵第二層為厚度h2=132.3nm、折射率n2=3.56的Si層,光柵匹配層為厚度h3=264.6nm、折射率n3=1.45的SiO2,金屬反射鏡為銀材料,金屬反射鏡的厚度為200nm; 在利特羅角入射下,TE偏振光和TM偏振光的-1級衍射效率在1000nm-1100nm均大于97%,TE偏振光和TM偏振光的-1級衍射效率在1008nm-1092nm均大于98%,TE偏振光和TM偏振光的-1級衍射效率在1028nm-1068nm均大于99%。
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