廣州方邦電子股份有限公司蘇陟獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉廣州方邦電子股份有限公司申請的專利一種散射膜及電子設備獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN112886263B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-02發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:201911199799.0,技術領域涉及:H01Q15/02;該發明授權一種散射膜及電子設備是由蘇陟;高強設計研發完成,并于2019-11-29向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種散射膜及電子設備在說明書摘要公布了:本發明實施例提供了一種散射膜及電子設備,散射膜包括導電層,在導電層上開設有多個貫穿導電層的通孔,通孔可供電磁波通過,通孔的孔徑小于通過通孔的電磁波的波長,當電磁波穿過導電層的通孔時,發生衍射,電磁波經過衍射產生了多個方向的傳輸路徑,增大了電磁波發射的空間范圍,實現電磁波的發散功能,盡可能避免通信盲區;在導電層的至少一個預設方向上通孔的數量和或孔徑呈連續變化的趨勢,預設方向為導電層表面內的任意方向,加強電磁波的衍射,進一步增大電磁波發射的空間范圍。
本發明授權一種散射膜及電子設備在權利要求書中公布了:1.一種散射膜,其特征在于,包括導電層,所述導電層上開設有多個貫穿所述導電層的通孔,所述通孔可供電磁波通過,所述通孔的孔徑小于通過所述通孔的電磁波的波長; 在所述導電層的至少一個預設方向上所述通孔的數量和或孔徑呈連續變化的趨勢,所述預設方向為所述導電層表面內的任意方向; 還包括第一凸起結構,設置于所述導電層的第一表面,所述第一凸起結構的高度為0.1μm-15μm,所述電磁波在穿過所述導電層的通孔后,在經過所述第一凸起結構時發生漫反射,第一凸起結構的形狀為樹枝狀,所述導電層的第一表面設置有絕緣層,所述第一凸起結構伸入所述絕緣層,所述絕緣層的厚度為1μm-25μm。
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