北京北方華創微電子裝備有限公司王巖獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉北京北方華創微電子裝備有限公司申請的專利上電極組件及半導體工藝腔室獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN114823257B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-22發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202210586098.8,技術領域涉及:H01J37/244;該發明授權上電極組件及半導體工藝腔室是由王巖;余江浦;王偉設計研發完成,并于2022-05-27向國家知識產權局提交的專利申請。
本上電極組件及半導體工藝腔室在說明書摘要公布了:本發明公開一種上電極組件及半導體工藝腔室,上電極組件包括蓋板、噴嘴、位置檢測機構和調節機構;所述蓋板開設有安裝孔,所述噴嘴設置于所述安裝孔內;所述位置檢測機構設置于所述蓋板上,所述位置檢測機構用于檢測所述噴嘴在所述安裝孔內的徑向位置;所述調節機構設置于所述蓋板,所述調節機構用于調節所述噴嘴在所述安裝孔內的徑向位置;當所述位置檢測機構檢測到所述噴嘴在所述安裝孔內的徑向位置偏移時,所述調節機構可對所述噴嘴在所述安裝孔內的徑向位置進行調節,以對所述噴嘴在所述安裝孔內的徑向位置進行矯正。上述方案能夠解決半導體工藝腔室的工藝性能較差的問題。
本發明授權上電極組件及半導體工藝腔室在權利要求書中公布了:1.一種上電極組件,應用于半導體工藝腔室,其特征在于,包括: 蓋板(110)和噴嘴(120),所述蓋板(110)開設有安裝孔,所述噴嘴(120)設置于所述安裝孔內; 位置檢測機構(130),所述位置檢測機構(130)設置于所述蓋板(110)上,所述位置檢測機構(130)用于檢測所述噴嘴(120)在所述安裝孔內的徑向位置是否偏移; 調節機構(140),所述調節機構(140)設置于所述蓋板(110),所述調節機構(140)用于調節所述噴嘴(120)在所述安裝孔內的徑向位置; 當所述位置檢測機構(130)檢測到所述噴嘴(120)在所述安裝孔內的徑向位置偏移時,所述調節機構(140)可對所述噴嘴(120)在所述安裝孔內的徑向位置進行調節,以對所述噴嘴(120)在所述安裝孔內的徑向位置進行矯正。
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