杭州電子科技大學楊澤華獲國家專利權
買專利賣專利找龍圖騰,真高效! 查專利查商標用IPTOP,全免費!專利年費監控用IP管家,真方便!
龍圖騰網獲悉杭州電子科技大學申請的專利結合先驗掩膜的OCT圖像脈絡膜分割模型構建方法及應用獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN114972365B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-22發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202210691853.9,技術領域涉及:G06T7/10;該發明授權結合先驗掩膜的OCT圖像脈絡膜分割模型構建方法及應用是由楊澤華;王亞奇;賈剛勇;顧人舒;金凱;葉娟設計研發完成,并于2022-06-17向國家知識產權局提交的專利申請。
本結合先驗掩膜的OCT圖像脈絡膜分割模型構建方法及應用在說明書摘要公布了:本發明公開了一種結合先驗掩膜的OCT圖像脈絡膜分割模型構建方法及應用,本發明包括數據預處理,通過裁剪,調整比例,再裁剪,統一數據尺寸;再通過標注分別生成脈絡膜的兩個階段掩膜;為了解決圖像背景復雜的問題,設計了級聯結構的多階段分割網絡,第一階段先分割BM層以下部分,去除上方背景干擾,第二階段在精細分割脈絡膜;為了解決脈絡膜紋理不均且下方邊界模糊的問題,設計了多尺度上下文聚合模塊;最后為了優化級聯網絡的訓練過程,設計了自適應的跨階段特征融合模塊。本發明充分利用了光學相干斷層掃描圖像本身信息,并且能夠有效捕捉圖像的多尺度信息以及上下文信息,提升了光學相干斷層掃描圖像脈絡膜分割效果。
本發明授權結合先驗掩膜的OCT圖像脈絡膜分割模型構建方法及應用在權利要求書中公布了:1.結合先驗掩膜的OCT圖像脈絡膜分割模型構建方法,其特征在于,該方法包括如下步驟: 步驟1)通過預處理統一OCT圖像尺寸; 步驟2)掩膜生成,包括第一階段掩膜和第二階段掩膜; 第一階段掩膜生成方式如下:首先提取上邊界BM的位置,再對圖像進行二值化將上邊界上方的區域的像素值變為0,下方區域為1; 第二階段掩膜生成方式如下:標注數據提取出來的上下邊界進行二值化,其中上下邊界內的像素賦值為1,邊界外的像素賦值為0; 步驟3)構建基于編碼-解碼結構的級聯分割網絡; 所述級聯分割網絡包括兩個編碼-解碼網絡,兩個編碼-解碼網絡之間采用語義預測指導模塊進行連接;其中第一個編碼網絡由2個殘差卷積模塊和3個多尺度上下文聚合模塊組成,第二個編碼網絡由5個卷積模塊組成;解碼網絡均由4個上采樣卷積模塊組成; 步驟4)將步驟1)中處理好的圖像數據以及步驟2)中生成的掩膜進行數據增強后輸入到級聯分割網絡,并采用ADAM算法進行訓練,得到可用于光學相干斷層掃描圖像脈絡膜分割網絡模型。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術,可聯系本專利的申請人或專利權人杭州電子科技大學,其通訊地址為:310018 浙江省杭州市下沙高教園區2號大街;或者聯系龍圖騰網官方客服,聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息,力求客觀、公正,但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解,僅供參考使用,不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。