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龍圖騰網(wǎng)獲悉國(guó)家納米科學(xué)中心申請(qǐng)的專利一種金屬和介質(zhì)復(fù)合的納米圖案化基底及其制備方法與應(yīng)用獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN116254504B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-22發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202310045116.6，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C23C14/14；該發(fā)明授權(quán)一種金屬和介質(zhì)復(fù)合的納米圖案化基底及其制備方法與應(yīng)用是由陳佩佩;褚衛(wèi)國(guó);田毅;胡海峰;閆蘭琴設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2023-01-30向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本一種金屬和介質(zhì)復(fù)合的納米圖案化基底及其制備方法與應(yīng)用在說(shuō)明書摘要公布了：本發(fā)明提供了一種金屬和介質(zhì)復(fù)合的納米圖案化基底及其制備方法與應(yīng)用，所述納米圖案化基底包括襯底、周期性的三維介質(zhì)納米結(jié)構(gòu)和金屬納米顆粒；所述三維介質(zhì)納米結(jié)構(gòu)設(shè)置于襯底上；所述金屬納米顆粒限域在三維介質(zhì)納米結(jié)構(gòu)中；所述納米圖案化基底實(shí)現(xiàn)了超高像素分辨率和寬色域的結(jié)構(gòu)顯色。本發(fā)明提供的制備方法通過(guò)對(duì)鍍制在周期性的三維介質(zhì)納米結(jié)構(gòu)陣列上的金屬納米薄膜進(jìn)行熱處理，利用金屬銀具有優(yōu)異熱傳導(dǎo)和低熔點(diǎn)性質(zhì)，使受熱熔融的銀或銀合金沿介質(zhì)結(jié)構(gòu)界面遷移并匯聚，在三維介質(zhì)納米結(jié)構(gòu)限域作用下，金屬納米顆粒形成于介質(zhì)納米結(jié)構(gòu)中，從而獲得金屬和介質(zhì)復(fù)合的納米圖案化基底。

本發(fā)明授權(quán)一種金屬和介質(zhì)復(fù)合的納米圖案化基底及其制備方法與應(yīng)用在權(quán)利要求書中公布了：1.一種金屬和介質(zhì)復(fù)合的納米圖案化基底，其特征在于，所述納米圖案化基底包括襯底、周期性的三維介質(zhì)納米結(jié)構(gòu)和金屬納米顆粒； 所述三維介質(zhì)納米結(jié)構(gòu)設(shè)置于襯底上； 所述金屬納米顆粒限域在三維介質(zhì)納米結(jié)構(gòu)中，所述限域?yàn)椋豪弥芷谛缘娜S介質(zhì)結(jié)構(gòu)框架將單個(gè)金屬納米顆粒局限在結(jié)構(gòu)框架的網(wǎng)格中； 所述三維介質(zhì)納米結(jié)構(gòu)的高度為200-2000nm； 所述三維介質(zhì)納米結(jié)構(gòu)的側(cè)壁寬度為12-200nm； 所述金屬納米顆粒的粒徑為250-1000nm； 納米圖案化基底的制備方法包括以下步驟： 1在襯底表面制備周期性的三維介質(zhì)納米結(jié)構(gòu)，得到中間基底； 2在步驟1所述中間基底的三維介質(zhì)納米結(jié)構(gòu)上沉積金屬納米薄膜，然后依次進(jìn)行熱處理和表面清潔處理，得到納米圖案化基底； 步驟2所述熱處理的溫度為150-1200℃。

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