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龍圖騰網(wǎng)獲悉東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社申請(qǐng)的專利液處理裝置獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN109390255B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-09發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：201810908250.3，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01L21/67；該發(fā)明授權(quán)液處理裝置是由吉村好貴;高橋彰吾;瀧口靖史;山本太郎設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2018-08-10向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本液處理裝置在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供一種在將處理液供給到基片進(jìn)行處理的液處理裝置中，抑制顆粒向基片的附著的技術(shù)。上述液處理裝置構(gòu)成為，在從各噴嘴部5、6、7對(duì)保持為水平的晶片W供給處理流體進(jìn)行處理時(shí)，由設(shè)置有用于使各噴嘴部5、6、7移動(dòng)的開口部16a、16b、16c的覆蓋部件15覆蓋移動(dòng)基臺(tái)54、64、74和導(dǎo)軌55、65、75的上方，對(duì)覆蓋部件15的下方的驅(qū)動(dòng)區(qū)域進(jìn)行排氣，其中，移動(dòng)基臺(tái)54、64、74用于使各噴嘴部5、6、7在晶片的上方與待機(jī)位置之間移動(dòng)。并且，當(dāng)使各噴嘴部位于待機(jī)位置時(shí)，上述開口部16a、16b、16c分別被各個(gè)噴嘴部的噴嘴臂52、62、72封閉。

本發(fā)明授權(quán)液處理裝置在權(quán)利要求書中公布了：1.一種液處理裝置，其從噴嘴對(duì)基片供給處理液來進(jìn)行液處理，所述液處理裝置的特征在于，包括： 罩體，其設(shè)置成包圍用于將基片水平地保持的基片保持部； 噴嘴臂，其在前端部設(shè)置有所述噴嘴，并且后端部由支承部支承； 移動(dòng)機(jī)構(gòu)，其用于經(jīng)由所述支承部使噴嘴臂在待機(jī)位置與從所述噴嘴向基片供給處理流體的處理位置之間移動(dòng)； 使所述支承部升降的升降機(jī)構(gòu)； 覆蓋部件，其包括設(shè)置于比配置有所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)和升降機(jī)構(gòu)的驅(qū)動(dòng)區(qū)域靠上方側(cè)的位置的頂板部，用于將所述驅(qū)動(dòng)區(qū)域與在所述罩體內(nèi)保持基片的區(qū)域劃分開； 在所述頂板部的與所述支承部的移動(dòng)路徑對(duì)應(yīng)的部位，以允許該支承部進(jìn)行移動(dòng)的方式形成的開口部；和 對(duì)所述驅(qū)動(dòng)區(qū)域進(jìn)行排氣的排氣機(jī)構(gòu)， 所述待機(jī)位置位于所述罩體的后方側(cè)， 所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)構(gòu)成為能夠使噴嘴臂在前后方向上移動(dòng)， 所述開口部構(gòu)成為能夠由位于待機(jī)位置的噴嘴臂封閉。

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