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龍圖騰網獲悉深圳晶源信息技術有限公司申請的專利一種掩模優化方法、掩模優化系統及電子設備獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN112506003B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-23發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202011314970.0，技術領域涉及：G03F1/70；該發明授權一種掩模優化方法、掩模優化系統及電子設備是由黃曄;丁明設計研發完成，并于2020-11-20向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種掩模優化方法、掩模優化系統及電子設備在說明書摘要公布了：本發明涉及集成電路掩模設計領域，尤其涉及掩模優化方法、掩模優化系統及電子設備。包括步驟：S1、提供包括至少一個掩模圖形的掩模版圖，并將掩模版圖劃分成多個區域塊，至少部分區域塊中包括至少一個掩模圖形；S2、對區域塊中每個掩模圖形所有的線段分別與其周圍的線段執行計算，獲得并記錄與每條線段對應的特征值；S3、統計所有區域塊中的特征值，基于特征值對所述區域塊進行分類，基于分類結果選擇需要執行優化的區域塊定義為執行塊，所有執行塊之間的掩模圖形的線段的特征值存在區別；及S4、對執行塊進行優化，并記錄優化結果，且基于優化結果對掩模版圖進行全局優化，基于上述步驟對掩模版圖進行優化能很好的減小運算量，提高優化效率。

本發明授權一種掩模優化方法、掩模優化系統及電子設備在權利要求書中公布了：1.一種掩模優化方法，其特征在于，包括如下步驟： S1、提供包括至少一個掩模圖形的掩模版圖，并將所述掩模版圖劃分成多個區域塊，至少部分區域塊中包括至少一個掩模圖形，所述掩模圖形為多邊形，包括多條圍合的線段； S2、對所述區域塊中每個掩模圖形所有的線段分別與其周圍的線段執行計算，獲得并記錄與每個掩模圖形每條線段對應的特征值，所述特征值至少為關于周圍所有的線段的位置、長度以及方向的函數，定義需要計算特征值的線段為Sj，特征值對應為a，Si為線段Sj周圍的線段，則a通過如下的哈希函數計算： Six,y為線段Sj周圍的線段Si以線段Sj的中點為原點的相對坐標，SiL為線段Si的長度，SiD為線段Si相對線段Sj的方向的相對值； S3、統計所有區域塊中所有線段的特征值，基于所述特征值對所述區域塊進行分類，基于分類結果選擇需要執行優化的區域塊定義為執行塊，所有執行塊之間的掩模圖形的線段的特征值存在區別；及 S4、對所述執行塊進行優化，并記錄每個特征值對應的掩模圖形的線段對應的優化結果，且基于所述優化結果對所述掩模版圖進行全局優化。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人深圳晶源信息技術有限公司，其通訊地址為：518000 廣東省深圳市福田區福保街道福保社區紅棉道8號英達利科技數碼園C棟401A；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。