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龍圖騰網獲悉上海微電子裝備(集團)股份有限公司申請的專利一種激光退火弧形掃描方法及激光退火裝置獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115274432B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-23發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202110485110.1，技術領域涉及：H01L21/324；該發明授權一種激光退火弧形掃描方法及激光退火裝置是由劉洋;黃元昊;劉曉;王剛;蘇海業;羅聞設計研發完成，并于2021-04-30向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種激光退火弧形掃描方法及激光退火裝置在說明書摘要公布了：本發明實施例提供一種激光退火弧形掃描方法及激光退火裝置，包括：提供晶圓；形成退火掃描軌跡；其中，所述退火掃描軌跡包括多條沿y方向排列的弧形的光斑軌跡，每一條所述光斑軌跡包括多個沿x方向排列的光斑，形成第i+1條光斑軌跡中第m個光斑與形成第i條光斑軌跡中第n個光斑相切，i，m，n均為正整數；沿所述x方向，第i+1條所述光斑軌跡中第m個光斑與第i條所述光斑軌跡中第n個光斑之間的距離等于所述光斑沿所述x方向的長度；按照所述退火掃描軌跡進行激光掃描，完成對所述晶圓的退火。本發明實施例提供一種激光退火弧形掃描方法及激光退火裝置，以通過光斑軌跡的規劃，使得退火時間不足區域完成多次退火，提高晶圓面溫度的均勻性。

本發明授權一種激光退火弧形掃描方法及激光退火裝置在權利要求書中公布了：1.一種激光退火弧形掃描方法，其特征在于，包括： 提供晶圓； 形成退火掃描軌跡；其中，所述退火掃描軌跡包括多條沿y方向排列的弧形的光斑軌跡，每一條所述光斑軌跡包括多個沿x方向排列的光斑，形成第i+1條所述光斑軌跡中第m個光斑與形成第i條所述光斑軌跡中第n個光斑相切，i，m，n均為正整數；沿所述x方向，第i+1條所述光斑軌跡中第m個光斑與第i條所述光斑軌跡中第n個光斑之間的距離等于所述光斑沿所述x方向的長度； 按照所述退火掃描軌跡進行激光掃描，完成對所述晶圓的退火； 所述光斑包括矩形光斑； 形成第i+1條所述光斑軌跡中第m個光斑與形成第i條所述光斑軌跡中第n個光斑相切，包括： 形成第i+1條所述光斑軌跡中第m個矩形光斑的頂點與形成第i條所述光斑軌跡中第n個矩形光斑的頂點重合。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人上海微電子裝備(集團)股份有限公司，其通訊地址為：201203 上海市浦東新區中國（上海）自由貿易試驗區張東路1525號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。