東京毅力科創(chuàng)株式會社道菅隆獲國家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)獲悉東京毅力科創(chuàng)株式會社申請的專利維護(hù)裝置、真空處理系統(tǒng)和維護(hù)方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號為:CN116711051B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-23發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為:202180084843.2,技術(shù)領(lǐng)域涉及:H01L21/3065;該發(fā)明授權(quán)維護(hù)裝置、真空處理系統(tǒng)和維護(hù)方法是由道菅隆設(shè)計研發(fā)完成,并于2021-12-23向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。
本維護(hù)裝置、真空處理系統(tǒng)和維護(hù)方法在說明書摘要公布了:維護(hù)裝置包括:形成有開口部的殼體,開口部具有與在處理容器設(shè)置有第一開閉門和第二開閉門的真空處理裝置的第二開閉門對應(yīng)的尺寸,第一開閉門用于基片的送入送出,第二開閉門與第一開閉門不同,能夠?qū)㈤_口部氣密地安裝于第二開閉門;用于對殼體內(nèi)部進(jìn)行減壓的減壓機(jī)構(gòu);和配置在殼體內(nèi)部的吸引機(jī)構(gòu),其能夠經(jīng)由開口部進(jìn)入處理容器內(nèi),對處理容器內(nèi)的對象物的附著物進(jìn)行吸引。
本發(fā)明授權(quán)維護(hù)裝置、真空處理系統(tǒng)和維護(hù)方法在權(quán)利要求書中公布了:1.一種維護(hù)裝置,其特征在于,包括: 形成有開口部的殼體,所述開口部具有與在處理容器設(shè)置有第一開閉門和第二開閉門的真空處理裝置的所述第二開閉門對應(yīng)的尺寸,所述第一開閉門用于基片的送入送出,所述第二開閉門與所述第一開閉門不同,能夠?qū)⑺鲩_口部可拆裝地并且氣密地安裝于所述第二開閉門; 用于對所述殼體內(nèi)部進(jìn)行減壓的減壓機(jī)構(gòu);和 配置在所述殼體內(nèi)部的吸引機(jī)構(gòu),其能夠經(jīng)由所述開口部進(jìn)入所述處理容器內(nèi),對所述處理容器內(nèi)的對象物的附著物進(jìn)行吸引, 所述吸引機(jī)構(gòu)包括: 臂,該臂的前端能夠經(jīng)由所述開口部靠近所述處理容器內(nèi)的對象物;和 設(shè)置在所述臂的前端的吸引口,其用于對所述處理容器內(nèi)的對象物的附著物進(jìn)行吸引, 所述處理容器內(nèi)的對象物是載置臺,該載置臺具有能夠載置基片的載置部和能夠載置邊緣環(huán)的外周部, 所述維護(hù)裝置還包括配置在所述殼體內(nèi)部的輸送機(jī)構(gòu),其能夠經(jīng)由所述開口部進(jìn)行邊緣環(huán)從所述處理容器的送出和邊緣環(huán)向所述處理容器內(nèi)的送入, 所述輸送機(jī)構(gòu)將更換用的邊緣環(huán)送入所述處理容器內(nèi)并載置在所述載置臺的外周部, 所述維護(hù)裝置還包括控制部,其利用設(shè)置在所述臂的前端的拍攝部在周向的多個位置分別對所述更換用的邊緣環(huán)與所述載置臺的載置部之間的間隙進(jìn)行拍攝,基于所得到的拍攝圖像,對周向的多個位置分別計算所述間隙的寬度與基準(zhǔn)寬度的偏移量,并控制所述輸送機(jī)構(gòu)對所述更換用的邊緣環(huán)的位置修正所計算出的所述偏移量。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)@麢?quán)人東京毅力科創(chuàng)株式會社,其通訊地址為:日本東京都;或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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