江西兆馳半導體有限公司曾家明獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉江西兆馳半導體有限公司申請的專利一種micro-LED及其制備方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN114566575B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-23發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202210189085.7,技術領域涉及:H10H20/812;該發明授權一種micro-LED及其制備方法是由曾家明;鄭文杰;程龍;胡加輝;劉春楊設計研發完成,并于2022-02-28向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種micro-LED及其制備方法在說明書摘要公布了:本發明公開了一種micro?LED及其制備方法,應用于紅光micro?LED,涉及二極管技術領域領域,該micro?LED包括襯底;在所述襯底上依次設有紅光外延準備層、N型InbGa1?bNGaN層、發光層、電子阻擋層、P型InfGa1?fN層及接觸層;在所述發光層與電子阻擋層之間設有一波導層,所述波導層為IneGa1?eN薄膜層,其中,In的組分e為0.01?0.1。本發明能夠解決現有技術中外延層中雜質擴散至發光層中,導致發光效率低下的技術問題。
本發明授權一種micro-LED及其制備方法在權利要求書中公布了:1.一種micro-LED,應用于紅光micro-LED,其特征在于,所述micro-LED包括: 襯底; 在所述襯底上依次設有紅光外延準備層、N型InbGa1-bNGaN層、發光層、電子阻擋層、P型InfGa1-fN層及接觸層; 在所述發光層與電子阻擋層之間設有一波導層,所述波導層為IneGa1-eN薄膜層,其中,In的組分e為0.01-0.1,厚度為5-10nm, 所述發光層為多量子阱層結構,包括若干個周期IncGa1-cN阱層與IndGa1-dN壘層,其中,IncGa1-cN阱層的厚度為1-5nm,In的組分c為0.3-0.5,IndGa1-dN壘層的厚度為5-15nm,In的組分d為0.01-0.1。
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