江西兆馳半導體有限公司胡加輝獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉江西兆馳半導體有限公司申請的專利一種藍光LED外延片、外延生長方法及藍光LED芯片獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN114709306B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-23發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202210240547.3,技術領域涉及:H10H20/812;該發明授權一種藍光LED外延片、外延生長方法及藍光LED芯片是由胡加輝;劉春楊;呂蒙普;金從龍;顧偉設計研發完成,并于2022-03-10向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種藍光LED外延片、外延生長方法及藍光LED芯片在說明書摘要公布了:本發明提供一種藍光LED外延片、外延生長方法及藍光LED芯片,該藍光LED外延片包括復合襯底、預處理層和緩沖層,所述預處理層和所述緩沖層沉積于所述復合襯底上,所述緩沖層由第一緩沖層和第二緩沖層依次生長的結構,所述復合襯底為SiO2圖形襯底,所述預處理層和所述第一緩沖層皆為AlN層,所述第二緩沖層為GaN層,其中,所述預處理層的致密性優于所述第一緩沖層的致密性,由于引入了高致密性的預處理層,可以有效減少復合襯底中的SiO2擴散,同時,在預處理層上沉積的第一緩沖層用于應力釋放,從而可以得到更好的GaN外延層,降低缺陷密度,改善了外延層的晶體質量。
本發明授權一種藍光LED外延片、外延生長方法及藍光LED芯片在權利要求書中公布了:1.一種藍光LED外延片,其特征在于,包括層疊設置的復合襯底、預處理層和緩沖層,所述緩沖層為第一緩沖層和第二緩沖層依次生長的結構,所述復合襯底為SiO2圖形襯底,所述預處理層和所述第一緩沖層皆為AlN層,所述第二緩沖層為GaN層,所述預處理層的致密性優于所述第一緩沖層的致密性; 所述藍光LED外延片還包括三維生長的GaN層、不摻雜的GaN層、n型摻雜的GaN層、應力釋放層、多量子阱層、電子阻擋層以及p型摻雜的GaN層; 所述預處理層、所述緩沖層、所述三維生長的GaN層、所述不摻雜的GaN層、所述n型摻雜的GaN層、所述應力釋放層、所述多量子阱層、所述電子阻擋層以及所述p型摻雜的GaN層依次外延生長在所述復合襯底上。
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