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龍圖騰網獲悉華南理工大學申請的專利一種光譜儀獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN116124287B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-23發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202211490513.6，技術領域涉及：G01J3/12；該發明授權一種光譜儀是由鄧雄;劉江濤;李志遠;陳朝猛設計研發完成，并于2022-11-25向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種光譜儀在說明書摘要公布了：本發明公開了一種光譜儀。所述光譜儀包括寬譜光源、多個帶通濾波片、多個微腔、驅動源，光譜分析系統；微腔連接光譜分析系統；微腔中部設置有光電探測器，微腔內部其余位置由相變材料進行填充；待測樣品設置在寬譜光源和多個帶通濾波片之間，由寬譜光源發出的光通過待測樣品吸收后產生的不同波長待測光，不同波長待測光通過多個帶通濾波片后照射在多個微腔上，通過驅動源改變微腔中的相變材料的結晶度從而改變相變材料的折射率，進而對微腔的光程和共振頻率，以及光電轉換層的吸收峰的波長進行調控，以實現對不同波長待測光的選擇性探測，從而實現光譜分析。本發明結構簡單，制備材料與成熟的半導體器件生產工藝兼容，便于芯片集成。

本發明授權一種光譜儀在權利要求書中公布了：1.一種光譜儀，其特征在于，包括寬譜光源1、多個帶通濾波片2、多個微腔3、驅動源4，光譜分析系統5；微腔3連接光譜分析系統5； 微腔3中部設置有光電探測器，微腔3內部其余位置由相變材料6進行填充，構成相變材料層； 光電探測器包括絕緣隔離層7、光電轉換層8和光電探測層電極9，其中，光電轉換層8上下均設置有絕緣隔離層7，將光電轉換層8與相變材料層隔離，絕緣隔離層7在消除相變材料層對電流的影響的同時可以減小相變材料層對待測光的影響；光電轉換層8兩端分別連接一個光電探測層電極9用于測量光電流； 待測樣品設置在寬譜光源1和多個帶通濾波片2之間，由寬譜光源1發出的光通過待測樣品吸收后產生的不同波長待測光，不同波長待測光通過多個帶通濾波片2后照射在多個微腔3上，通過驅動源4改變微腔3中相變材料6的結晶度從而改變相變材料6的折射率，進而對微腔3的光程和共振頻率，以及光電轉換層8的吸收峰的波長進行調控，以實現對不同波長待測光的選擇性探測，從而實現光譜分析。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人華南理工大學，其通訊地址為：510640 廣東省廣州市天河區五山路381號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。