同濟大學穆寶忠獲國家專利權
買專利賣專利找龍圖騰,真高效! 查專利查商標用IPTOP,全免費!專利年費監控用IP管家,真方便!
龍圖騰網獲悉同濟大學申請的專利用于標定X射線濾片和反射鏡工作效率的測量系統及方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN115793027B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-23發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202211494049.8,技術領域涉及:G01T1/36;該發明授權用于標定X射線濾片和反射鏡工作效率的測量系統及方法是由穆寶忠;劉漢威;徐捷設計研發完成,并于2022-11-25向國家知識產權局提交的專利申請。
本用于標定X射線濾片和反射鏡工作效率的測量系統及方法在說明書摘要公布了:本發明涉及一種用于標定X射線濾片和反射鏡工作效率的測量系統及方法,包括真空單元、瞄準準直單元、樣品置放單元、調節單元、測角單元和信號采集控制單元;所述調節單元用于調節瞄準準直單元、樣品置放單元以及測角單元的工作狀態,調節單元與信號采集控制單元連接;所述真空單元與第一真空腔相連接;所述樣品置放單元包括濾片樣品架和反射鏡樣品架;所述瞄準準直單元置于第一真空腔內,樣品置放單元、調節單元和測角單元置于第二真空腔內,兩個真空腔通過密封真空法蘭相連接。與現有技術相比,本發明能夠同時測量多塊濾片及反射鏡樣品,并實時測量輸入信號以及輸出信號,顯著提高了測量效率,同時降低了測量誤差。
本發明授權用于標定X射線濾片和反射鏡工作效率的測量系統及方法在權利要求書中公布了:1.一種用于標定X射線濾片和反射鏡工作效率的測量系統,其特征在于,包括真空單元1、瞄準準直單元2、樣品置放單元3、調節單元4、測角單元5和信號采集控制單元6; 所述調節單元4用于調節瞄準準直單元2、樣品置放單元3以及測角單元5的工作狀態,調節單元4與信號采集控制單元6連接; 所述真空單元1與第一真空腔相連接; 所述樣品置放單元3包括濾片樣品架和反射鏡樣品架; 所述瞄準準直單元2置于第一真空腔內,樣品置放單元3、調節單元4和測角單元5置于第二真空腔內,兩個真空腔通過密封真空法蘭相連接; 所述的真空單元1配備有真空泵和高精度真空計,裝置真空度≤10-3pa; 所述的瞄準準直單元2包括可垂直調節的第一狹縫和第二狹縫以及可垂直調節的用于監控狹縫光斑的第一CCD相機和第二CCD相機,第一狹縫為橫狹縫,第二狹縫為豎狹縫,狹縫寬度調節范圍為1~3mm,狹縫間距為200mm,狹縫邊緣涂抹有X射線熒光粉; 所述的測角單元5包括閃爍體和可垂直調節的用于監控閃爍體光斑的第三CCD相機,閃爍體設置在第二真空腔內壁上,第三CCD相機與調節單元4相連接,所述閃爍體為GAGG塑料閃爍體,閃爍體置于光路末端,直徑為300mm; 所述的信號采集控制單元6包括第二真空腔內部的兩個硅光二極管探測器、弱電流計、上位機以及設置在第二真空腔體上的用于引出信號的電纜和真空航插法蘭,所述硅光二極管為AXUV-100標準探測器,前后探測器靈敏度差異≤2%,信噪比≥100; 所述的調節單元4包括搭載于狹縫、硅光二極管、濾片樣品架和反射鏡樣品架中的真空電控調節架,所述真空電控調節架對狹縫、硅光二極管和濾片樣品進行30mm的垂直調節;所述調節單元中的真空電控調節架對多層鏡反射鏡樣品進行30mm的垂直調節、30mm的水平調節以及0度至20度的角度調節;對觀察狹縫的第一CCD相機和第二CCD相機進行15mm的垂直調節;對觀察閃爍體光斑的第三CCD相機進行200mm的垂直調節。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術,可聯系本專利的申請人或專利權人同濟大學,其通訊地址為:200092 上海市楊浦區四平路1239號;或者聯系龍圖騰網官方客服,聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息,力求客觀、公正,但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解,僅供參考使用,不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。