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龍圖騰網獲悉廣東工業(yè)大學申請的專利一種基于模型分析的集成電路設計評估方法及系統(tǒng)獲國家發(fā)明授權專利權，本發(fā)明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN119991612B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-23發(fā)布的發(fā)明授權授權公告中獲悉：該發(fā)明授權的專利申請?zhí)?專利號為：202510079440.9，技術領域涉及：G06T7/00；該發(fā)明授權一種基于模型分析的集成電路設計評估方法及系統(tǒng)是由陳成斌;李尤;李嘉其;鄭欣設計研發(fā)完成，并于2025-01-18向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種基于模型分析的集成電路設計評估方法及系統(tǒng)在說明書摘要公布了：本發(fā)明公開了一種基于模型分析的集成電路設計評估方法及系統(tǒng)。首先，獲取N個加工流程的加工圖像數(shù)據并進行預處理與標準化，并按電路設計進行多區(qū)域劃分。基于一個加工流程，提取各電路區(qū)域的色彩、紋理、輪廓特征，構建DBSCAN聚類模型，并初始化參數(shù)。隨后，導入各電路區(qū)域特征數(shù)據進行聚類，合并連續(xù)區(qū)域，生成合并圖像區(qū)域，并動態(tài)設定圖像窗口。最后，基于每個加工流程的圖像窗口，引入SSIM相似指數(shù)計算，對比電路特征數(shù)據與缺陷特征，評估不同加工流程的電路設計加工缺陷。通過本發(fā)明，能夠實現(xiàn)對電路加工缺陷的精細化評估，實現(xiàn)對多個加工流程中缺陷特征的信息挖掘與變化分析，有效實現(xiàn)加工預警與設計優(yōu)化。

本發(fā)明授權一種基于模型分析的集成電路設計評估方法及系統(tǒng)在權利要求書中公布了：1.一種基于模型分析的集成電路設計評估方法，其特征在于，包括： 根據N個集成電路加工流程，獲取每個加工流程的加工圖像數(shù)據； 對加工圖像數(shù)據進行圖像預處理與標準化，基于電路設計對電路圖進行多區(qū)域劃分，形成多個電路區(qū)域； 選定一個加工流程進行分析； 獲取一個加工流程對應的當前加工圖像數(shù)據， 根據當前加工圖像數(shù)據，通過邊緣檢測算子對每個電路區(qū)域進行基于色彩、紋理、輪廓的特征提取，形成電路特征數(shù)據； 獲取一個加工流程的設計布局信息，通過設計布局信息，從系統(tǒng)數(shù)據庫中獲取電路加工參考特征； 構建基于DBSCAN的聚類模型，初始化聚類模型參數(shù)，聚類模型參數(shù)包括樣本點輻射半徑與最小鄰居數(shù)； 將電路加工參考特征導入聚類模型并形成參考數(shù)據點，將參考數(shù)據點作為聚類模型的初始核心點； 將每個電路區(qū)域的電路特征數(shù)據導入聚類模型，并形成多個聚類數(shù)據點； 在聚類模型中，對于每個聚類數(shù)據點與初始核心點，找出其所有密度可達的數(shù)據點，對這些數(shù)據點及其核心點進行標注共同組成一個聚類，計算所有數(shù)據點，劃分邊界點并移除噪聲點，并最終形成聚類結果； 通過聚類結果，對多個電路區(qū)域進行劃分結果映射，形成多個區(qū)域組，每個區(qū)域組包括至少一個電路區(qū)域； 分析每個區(qū)域組，將一個區(qū)域組中位置連續(xù)的電路區(qū)域進行合并操作，形成合并圖像區(qū)域； 根據多個區(qū)域組形成多個合并圖像區(qū)域； 基于合并圖像區(qū)域進行像素窗口定位，并在電路圖區(qū)域中動態(tài)設定圖像窗口； 基于每個加工流程設定相應的圖像窗口，通過圖像窗口，引入SSIM相似指數(shù)計算方法，對不同加工流程進行集成電路缺陷計算，計算過程為基于設定的圖像窗口，提取相應電路特征數(shù)據與缺陷對比特征進行SSIM相似性分析，根據計算結果，對不同加工流程進行電路設計加工缺陷評估。

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