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龍圖騰網(wǎng)獲悉中國科學院長春光學精密機械與物理研究所申請的專利基于法布里珀羅標準具陣列的快照像面干涉成像光譜儀獲國家發(fā)明授權專利權，本發(fā)明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN119826978B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產權局官網(wǎng)在2025-09-23發(fā)布的發(fā)明授權授權公告中獲悉：該發(fā)明授權的專利申請?zhí)?專利號為：202510216878.7，技術領域涉及：G01J3/28；該發(fā)明授權基于法布里珀羅標準具陣列的快照像面干涉成像光譜儀是由呂金光;梁靜秋;鄭凱豐;趙百軒;陳宇鵬;趙瑩澤;王惟彪;秦余欣設計研發(fā)完成，并于2025-02-26向國家知識產權局提交的專利申請。

本基于法布里珀羅標準具陣列的快照像面干涉成像光譜儀在說明書摘要公布了：本發(fā)明涉及光譜成像領域，尤其涉及一種基于法布里珀羅標準具陣列的快照像面干涉成像光譜儀，包括望遠系統(tǒng)、微透鏡陣列、法布里珀羅標準具陣列和探測系統(tǒng)，望遠系統(tǒng)用于收集目標光場，并對目標光場進行視場限制和準直；微透鏡陣列用于對準直后的目標光場進行陣列成像；法布里珀羅標準具陣列由基底和多個介質腔厚度呈二維線性遞增的法布里珀羅標準具單元構成，任意相鄰兩個法布里珀羅標準具單元之間的階梯高度差均相同；探測系統(tǒng)用于對法布里珀羅標準具陣列調制的干涉光場進行成像，獲得干涉圖像陣列。本發(fā)明具有體積小、重量輕、結構緊湊、靜態(tài)、穩(wěn)定、可靠等優(yōu)點。

本發(fā)明授權基于法布里珀羅標準具陣列的快照像面干涉成像光譜儀在權利要求書中公布了：1.一種基于法布里珀羅標準具陣列的快照像面干涉成像光譜儀，其特征在于，包括望遠系統(tǒng)、微透鏡陣列、法布里珀羅標準具陣列和探測系統(tǒng)；其中， 望遠系統(tǒng)用于收集目標光場，并對目標光場進行視場限制和準直； 微透鏡陣列位于望遠系統(tǒng)的準直方向上，微透鏡陣列采用像方遠心光路結構，由M×N個微透鏡單元構成，微透鏡陣列用于對準直后的目標光場進行陣列成像； 法布里珀羅標準具陣列位于微透鏡陣列的像方焦面上，法布里珀羅標準具陣列由基底和M×N個介質腔厚度呈二維線性遞增的法布里珀羅標準具單元構成，每個介質腔的厚度對應一個光程差，一個方向上任意相鄰兩個法布里珀羅標準具單元之間的階梯高度差為d，另一個方向上任意相鄰兩個法布里珀羅標準具單元之間的階梯高度差為Md，每個法布里珀羅標準具單元對應一個微透鏡單元； 探測系統(tǒng)位于法布里珀羅標準具陣列的出射方向上，用于對法布里珀羅標準具陣列調制的干涉光場進行成像，獲得干涉圖像陣列； 介質腔的兩個反射界面的反射率為30%~40%； 基底采用低折射率透明基板，在低折射率透明基板的下表面蒸鍍增透膜，法布里珀羅標準具單元采用高折射率透明介質層；或者，基底采用高折射率基板，在高折射率基板的下表面蒸鍍增透膜，法布里珀羅標準具單元采用低折射率透明介質層，在低折射率透明介質層的上表面蒸鍍反射膜；或者，基底采用低折射率透明基板，在低折射率透明基板的下表面蒸鍍增透膜，在低折射率透明基板的上表面蒸鍍反射膜，法布里珀羅標準具單元采用低折射率透明介質層，在低折射率透明介質層的上表面蒸鍍反射膜； 低折射率透明基板為石英、氟化鈣、氟化鎂或藍寶石介質材料；高折射率透明介質層采用硅介質材料或鍺介質材料；高折射率基板為硅介質材料或鍺介質材料，低折射率透明介質層為二氧化硅、三氧化二鋁、氟化鈣、氟化鎂、氟化釔、氟化釷、氟化鈰中的任意一種，反射膜為硅膜或鍺膜； 對于入射的寬帶光譜，階梯高度差d滿足如下關系： ； 其中，λmin為寬帶光譜的最小波長，θmax為最大孔徑角光線在介質腔中對應的入射角，J為光譜諧波級次，n0為法布里珀羅標準具單元的介質折射率； 對于入射的窄帶光譜，階梯高度差d滿足如下關系： ； 其中，λs為窄帶光譜的最短波長，λL為窄帶光譜的最長波長，k為光譜折疊級次，取小于等于的任意整數(shù)。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯(lián)系本專利的申請人或專利權人中國科學院長春光學精密機械與物理研究所，其通訊地址為：130033 吉林省長春市經(jīng)濟技術開發(fā)區(qū)東南湖大路3888號；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。