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          洋華光電股份有限公司白志強獲國家專利權

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          龍圖騰網獲悉洋華光電股份有限公司申請的專利在透明電極上形成輔助導電單元的制造方法及其制成品獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN112684948B

          龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-19發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:201910993667.9,技術領域涉及:G06F3/044;該發明授權在透明電極上形成輔助導電單元的制造方法及其制成品是由白志強;林孟癸;黃鴻棋設計研發完成,并于2019-10-18向國家知識產權局提交的專利申請。

          在透明電極上形成輔助導電單元的制造方法及其制成品在說明書摘要公布了:一種在觸控傳感器的透明電極上形成輔助導電單元的制造方法及其制成品,其中該制造方法包含:在一介電基板的第一側面設置一第一觸控導電跡線圖案及一第一輔助導電跡線圖案;在介電基板的第二側面設置一第二觸控導電跡線圖案及一第二輔助導電跡線圖案,該第一、第二輔助導電跡線圖案均具有微型輔助導電單元并分別電性搭接在第一、第二觸控導電跡線圖案所界定的區域范圍內,且該第一、第二輔助導電跡線圖案的微型輔助導電單元的遮光率均在1%以下;其中,第一、第二觸控導電跡線圖案和第一、第二輔助導電跡線圖案共同形成至少一觸控傳感器,第一、第二觸控導電跡線圖案的面電阻值在80?150ohmsq之間,第一、第二輔助導電跡線圖案的面電阻值在0.05?0.2ohmsq之間。

          本發明授權在透明電極上形成輔助導電單元的制造方法及其制成品在權利要求書中公布了:1.一種在觸控傳感器的透明電極上形成輔助導電單元的制造方法,其特征在于,包含下列步驟: 制備導電基板:在一介電基板的第一側面上依序疊合設置一第一觸控導電層與一第一輔助導電層,在所述基板的第二側面上依序疊合設置一第二觸控導電層與一第二輔助導電層,所述第一側面隔著所述基板與所述第二側面相對,其中,所述第一觸控導電層和所述第二觸控導電層是由相同材料形成的透明的導電薄膜,所述第一輔助導電層和所述第二輔助導電層是由相同材料形成的不透光的導電薄膜,所述第一輔助導電層的面電阻率低于所述第一觸控導電層的面電阻率,所述第一輔助導電層電性疊接在所述第一觸控導電層之上,所述第二輔助導電層的面電阻率低于所述第二觸控導電層的面電阻率,所述第二輔助導電層電性疊接在所述第二觸控導電層之上; 第一黃光制程:在所述基板的所述第一側面上設置一第一光阻層,并在所述第一光阻層上顯影形成一第一光阻跡線圖案,所述第一光阻跡線圖案中至少包含有一第一觸控感應電極的圖案部分及一第一信號導線的圖案部分,其中,所述第一觸控感應電極是沿第一方向呈串行狀設置,所述第一信號導線是電性連接所述第一觸控感應電極; 第二黃光制程:在所述基板的所述第二側面上設置一第二光阻層,并在所述第二光阻層上顯影形成一第二光阻跡線圖案,所述第二光阻跡線圖案中至少包含有一第二觸控感應電極的圖案部分及一第二信號導線的圖案部分,其中,所述第二觸控感應電極是沿第二方向呈串行狀設置,所述第二信號導線是電性連接所述第二觸控感應電極; 第一蝕刻制程:使用一第一蝕刻劑對所述第一觸控導電層、所述第一輔助導電層、所述第二觸控導電層和所述第二輔助導電層進行蝕刻,以去除掉沒有被所述第一光阻層和所述第二光阻層保護的材料部分; 第一剝膜制程:移除所述第一光阻層和所述第二光阻層,在所述基板的所述第一側面上的所述第一觸控導電層及所述第一輔助導電層之上皆被蝕刻形成一與所述第一光阻跡線圖案相應的第一觸控導電跡線圖案,在所述基板的所述第二側面上的所述第二觸控導電層及所述第二輔助導電層之上皆被蝕刻形成一與所述第二光阻跡線圖案相應的第二觸控導電跡線圖案; 第三黃光制程:在所述基板的所述第一側面上設置一第三光阻層,并在所述第三光阻層上顯影形成一第三光阻跡線圖案,所述第三光阻跡線圖案中包含至少一第一微型輔助導電單元的圖案部分及一第一輔助信號導線的圖案部分,其中,所述第一微型輔助導電單元是設置在所述第一觸控感應電極的區域范圍內,所述第一輔助信號導線的至少一部分重疊的形成在所述第一信號導線的區域范圍內; 第四黃光制程:在所述基板的所述第二側面上設置一第四光阻層,并在所述第四光阻層上顯影形成一第四光阻跡線圖案,所述第四光阻跡線圖案中包含至少一第二微型輔助導電單元的圖案部分及一第二輔助信號導線的圖案部分,其中,所述第二微型輔助導電單元是設置在所述第二觸控感應電極的區域范圍內,所述第二輔助信號導線的至少一部分重疊的形成在所述第二信號導線的區域范圍內; 第二蝕刻制程:使用一第二蝕刻劑對所述第一輔助導電層和所述第二輔助導電層進行蝕刻,以去除掉沒有被所述第三光阻層和所述第四光阻層保護的材料部分,所述第二蝕刻劑不會與所述第一觸控導電層和所述第二觸控導電層的材料產生蝕刻反應;以及 第二剝膜制程:移除所述第三光阻層和所述第四光阻層,在所述基板的所述第一側面上的所述第一輔助導電層上被蝕刻形成一與所述第三光阻跡線圖案相應的第一輔助導電跡線圖案,而所述第一觸控導電層上仍然保持所述第一觸控導電跡線圖案,在所述基板的所述第二側面上的所述第二輔助導電層上被蝕刻形成一與所述第四光阻跡線圖案相應的第二輔助導電跡線圖案,而所述第二觸控導電層上仍然保持所述第二觸控導電跡線圖案;其中,所述第一觸控導電跡線圖案、所述第一輔助導電跡線圖案、所述第二觸控導電跡線圖案和所述第二輔助導電跡線圖案共同形成一觸控傳感器;所述第一輔助導電跡線圖案用以降低所述第一觸控導電跡線圖案的面電阻率,所述第二輔助導電跡線圖案用以降低所述第二觸控導電跡線圖案的面電阻率。

          如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術,可聯系本專利的申請人或專利權人洋華光電股份有限公司,其通訊地址為:中國臺灣桃園市觀音區觀音工業區經建一路31號;或者聯系龍圖騰網官方客服,聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。

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