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龍圖騰網獲悉常州維普半導體設備有限公司申請的專利一種用于掩膜版缺陷檢測的掩膜版標定方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN120014067B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-16發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510114126.X，技術領域涉及：G06T7/80；該發明授權一種用于掩膜版缺陷檢測的掩膜版標定方法是由徐東亮設計研發完成，并于2025-01-24向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種用于掩膜版缺陷檢測的掩膜版標定方法在說明書摘要公布了：本發明公開了一種用于掩膜版缺陷檢測的掩膜版標定方法，方法的步驟中包括：S1：選取掩膜版設計文件中有圖形的選定區域，輸出所述選定區域的矢量點；S2：采用AOI檢測設備采集對應實物掩膜版上對應于選定區域的實際圖像；S3：在選定區域的水平方向上設置水平向公差范圍，并進行步驟S31：采用水平向公差范圍內不同的水平公差補償值分別將步驟S1輸出的矢量點填充渲染成第一渲染圖像；將不同水平公差補償值渲染得到的第一渲染圖像分別和實際圖像進行配準，采用評價方法評價不同水平公差補償值對第一渲染圖像和實際圖像的契合度的影響，將評價結果最好的水平公差補償值作為水平方向標定的公差。通過該方法有利于提高缺陷檢測的精度和準確度。

本發明授權一種用于掩膜版缺陷檢測的掩膜版標定方法在權利要求書中公布了：1.一種用于掩膜版缺陷檢測的掩膜版標定方法，其特征在于，方法的步驟中包括： S1：選取掩膜版設計文件中有圖形的選定區域，輸出所述選定區域的矢量點； S2：采用AOI檢測設備采集對應實物掩膜版上對應于選定區域的實際圖像； S3：在選定區域的水平方向上設置水平向公差范圍，并進行步驟S31：采用水平向公差范圍內不同的水平公差補償值分別將步驟S1輸出的矢量點填充渲染成第一渲染圖像；將不同水平公差補償值渲染得到的第一渲染圖像分別和實際圖像進行配準，采用評價方法評價不同水平公差補償值對第一渲染圖像和實際圖像的契合度的影響，將評價結果最好的水平公差補償值作為水平方向標定的公差； S4：在選定區域的垂直方向上設置垂直向公差范圍，并進行步驟S41：采用垂直向公差范圍內不同的垂直公差補償值分別將步驟S1輸出的矢量點填充渲染成第二渲染圖像；將不同垂直公差補償值渲染得到的第二渲染圖像分別和實際圖像進行配準，采用評價方法評價不同垂直公差補償值對第二渲染圖像和實際圖像的契合度的影響，將評價結果最好的垂直公差補償值作為垂直方向標定的公差。

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