江蘇芯德半導體科技股份有限公司周進普獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉江蘇芯德半導體科技股份有限公司申請的專利QFN引線框架及其制備方法和QFN封裝結構獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN120473392B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-16發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202510975961.2,技術領域涉及:H01L21/48;該發明授權QFN引線框架及其制備方法和QFN封裝結構是由周進普;張灝杰;劉穎設計研發完成,并于2025-07-16向國家知識產權局提交的專利申請。
本QFN引線框架及其制備方法和QFN封裝結構在說明書摘要公布了:本發明提供了一種QFN引線框架及其制備方法和QFN封裝結構,QFN引線框架中,平面管腳設在框架單元正面的四個角,尾翼管腳折彎后垂直于框架單元的正面,平面管腳和尾翼管腳對框架單元的每個角形成了半包圍結構。本發明公開的QFN引線框架通過半包圍結構分散應力,降低開裂、崩壞風險。平面管腳也提供了額外的可焊表面,使熔融焊料更容易潤濕并附著,減少虛焊或拒焊的風險。QFN封裝結構通過使用四周具有半包圍結構的QFN引線框架,增強了封裝的結構強度,有效防止了封裝四角結構崩壞,提高了封裝結構的整體穩定性。因為平面管腳和尾翼管腳并不會被塑封料包裹,QFN封裝結構可以通過平面管腳和尾翼管腳進行散熱。
本發明授權QFN引線框架及其制備方法和QFN封裝結構在權利要求書中公布了:1.QFN引線框架的制備方法,其特征在于,所述方法包括以下步驟: S1、提供金屬基材,在金屬基材上陣列布置多個框架單元,采用化學蝕刻工藝在金屬基材正面形成基島和引腳,引腳設在框架單元四周邊緣處;在形成基島和引腳的同時,在框架單元四個角分別設置管腳,所述管腳包括平面管腳和尾翼管腳; S2、對金屬基材進行沖壓和切割,形成獨立的QFN引線框架,且平面管腳設在框架單元正面的四個角;尾翼管腳折彎后垂直于框架單元的正面,平面管腳和尾翼管腳對框架單元的每個角形成半包圍結構。
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