新毅東(北京)科技有限公司張琪獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉新毅東(北京)科技有限公司申請的專利光刻機的曝光劑量計算方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN120491403B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-16發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510990566.1，技術領域涉及：G03F7/20；該發明授權光刻機的曝光劑量計算方法是由張琪;符友銀;趙天琦;張國軍設計研發完成，并于2025-07-18向國家知識產權局提交的專利申請。
本光刻機的曝光劑量計算方法在說明書摘要公布了：本申請涉及光刻機技術領域，更為具體地說，涉及一種光刻機的曝光劑量計算方法，提供了一種光刻機的曝光劑量計算方法，該光刻機的曝光劑量計算方法包括：在勻光系統兩端的第一分光棱鏡和第二分光棱鏡處分別設置第一反射率傳感器和第二反射率傳感器以獲得光源發出的光經硅片、物鏡和掩膜版反射后從第一分光棱鏡和第二分光棱鏡的斜邊透射出的輻射通量；基于所述第一分光棱鏡和所述第二分光棱鏡采集到的輻射通量分別確定所述勻光系統對光線能量的折損率、所述硅片的反射率和所述物鏡的反射率；以及，基于所述勻光系統對光線能量的折損率、所述硅片的反射率和所述物鏡的反射率確定輻射通量。這樣，可以結合曝光時間精確且快速實時地計算出曝光劑量。
本發明授權光刻機的曝光劑量計算方法在權利要求書中公布了：1.一種光刻機的曝光劑量計算方法，其中，包括： 在勻光系統兩端的第一分光棱鏡和第二分光棱鏡處分別設置第一反射率傳感器和第二反射率傳感器以獲得光源發出的光經硅片、物鏡和掩膜版反射后從第一分光棱鏡和第二分光棱鏡的斜邊透射出的輻射通量； 基于所述第一分光棱鏡和所述第二分光棱鏡采集到的輻射通量分別確定所述勻光系統對光線能量的折損率、所述硅片的反射率和所述物鏡的反射率；以及， 基于所述勻光系統對光線能量的折損率、所述硅片的反射率和所述物鏡的反射率，通過以下公式確定輻射通量： ； 其中，E曝光為硅片上曝光單個點位的曝光輻射通量，E光源為光源發射出的輻射通量，η勻光為所述勻光系統對光線能量的折損率，R硅片為所述硅片的單次反射率，R物鏡為所述物鏡的單次反射率，m為光線在曝光系統中傳播后經過m次衰減后輻射通量減少到近乎為0的次數，n為從光源反射的光進入曝光系統中的次數。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人新毅東(北京)科技有限公司，其通訊地址為：100176 北京市大興區北京經濟技術開發區榮昌東街甲5號3號樓1層101-8；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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