TCL科技集團股份有限公司郭煜林獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉TCL科技集團股份有限公司申請的專利ZnS復合材料及其制備方法、ZnS薄膜、發光器件獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN114068296B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-12發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202010751464.1,技術領域涉及:H01L21/02;該發明授權ZnS復合材料及其制備方法、ZnS薄膜、發光器件是由郭煜林;吳龍佳;張天朔;李俊杰設計研發完成,并于2020-07-30向國家知識產權局提交的專利申請。
本ZnS復合材料及其制備方法、ZnS薄膜、發光器件在說明書摘要公布了:本申請屬于顯示技術領域,尤其涉及一種ZnS復合材料的制備方法,包括步驟:將鋅源、硫源溶解到有機溶劑中,添加貴金屬鹽進行混合反應,得到混合鹽溶液;在所述混合鹽溶液中添加堿源使溶液呈堿性,進行水熱反應,得到ZnS復合材料。本申請實施例提供的ZnS復合材料的制備方法,簡單的工藝,制備的ZnS復合材料,表面缺陷態少,導電性好,電子傳輸效率高,與相鄰功能層界面接觸性能好,且在溶液中分散穩定性好。
本發明授權ZnS復合材料及其制備方法、ZnS薄膜、發光器件在權利要求書中公布了:1.一種ZnS復合材料的制備方法,其特征在于,包括以下步驟: 將鋅源、硫源溶解到有機溶劑中,使硫元素和鋅元素結合形成ZnS晶核,添加貴金屬鹽進行混合反應,使所述ZnS晶核在繼續生長的同時貴金屬離子摻雜到ZnS中,得到混合鹽溶液;所述硫源與所述鋅源的摩爾比為(1~3):1;所述貴金屬鹽與所述鋅源的摩爾比為(0.02~0.1):1;所述混合鹽溶液中,鋅源的濃度為0.1molL~1molL; 在所述混合鹽溶液中添加堿源使溶液呈堿性,進行水熱反應,誘導羥基修飾材料表面的S空位,使材料表面同時結合有-S和-OH,得到ZnS復合材料。
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