福建金石能源有限公司陳偉文獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉福建金石能源有限公司申請的專利一種電化學沉積金屬圖形的方法及設備獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN112864281B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-12發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202110237208.5，技術領域涉及：H10F71/00；該發明授權一種電化學沉積金屬圖形的方法及設備是由陳偉文;楊與勝設計研發完成，并于2021-03-03向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種電化學沉積金屬圖形的方法及設備在說明書摘要公布了：本發明涉及一種電化學沉積金屬圖形的方法，它具體步驟包括A.水平排片；B.貼膜成串；C.水平曝光；D.顯影成形；E.電化學沉積；F.退膜蝕刻；G.清潔成品。本發明的目的在于提供一種電化學沉積金屬圖形的方法及設備，其能夠整線水平生產，破片率低，可實現全自動化程度高，產能大，生產作業環境良好。
本發明授權一種電化學沉積金屬圖形的方法及設備在權利要求書中公布了：1.一種電化學沉積金屬圖形的方法，其特征在于：它具體步驟包括 A.水平排片：將基片沿輸送方向依序水平排布； B.貼膜成串：將導電帶和感光膜帶貼合在經步驟A水平排片處理的基片上，使基片成串； C.水平曝光：基片經步驟B貼膜成串處理后，對每個基片區域進行曝光，完成圖形轉移； D.顯影成形：將經步驟C水平曝光處理的基片進行水平顯影，感光膜帶在基片上形成帶有待電化學沉積的鏤空圖形的干膜； E.電化學沉積：將經步驟D顯影成形處理的基片水平送入電化學沉積設備，通過導電帶連接電化學沉積設備的陰極，和電化學沉積設備的陽極形成導電閉環，進行水平電化學沉積； F.退膜蝕刻：將經步驟E電化學沉積處理的基片進行干膜去除，并回收導電帶； G.清潔成品：將經步驟F退膜蝕刻處理的基片進行清洗并干燥。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人福建金石能源有限公司，其通訊地址為：362200 福建省泉州市晉江市經濟開發區（五里園）泉源路17號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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