株式會社國際電氣吉野晃生獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉株式會社國際電氣申請的專利基板處理裝置、半導體裝置的制造方法以及程序獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114864432B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-12發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202110293140.2，技術領域涉及：H01L21/67；該發明授權基板處理裝置、半導體裝置的制造方法以及程序是由吉野晃生;大橋直史;高崎唯史設計研發完成，并于2021-03-18向國家知識產權局提交的專利申請。
本基板處理裝置、半導體裝置的制造方法以及程序在說明書摘要公布了：本發明提供一種基板處理裝置、半導體裝置的制造方法以及程序。在具有真空輸送室的基板處理裝置中，其目的為降低輸送室的低溫區域的水分量。具有：具有加熱器的處理室；加載互鎖室；輸送室，其設置于上述處理室與上述加載互鎖室之間，具有上述處理室側的第一區域和位于比上述第一區域靠上述加載互鎖室側且溫度比上述第一區域低的第二區域；檢測部，其檢測上述輸送室中的水分量；以及惰性氣體供給部，其能夠在上述輸送室的內部朝向上述第二區域供給惰性氣體。
本發明授權基板處理裝置、半導體裝置的制造方法以及程序在權利要求書中公布了：1.一種基板處理裝置，其特征在于， 具有： 具有加熱器的處理室； 加載互鎖室； 輸送室，其由框體構成且設置于上述處理室與上述加載互鎖室之間，具有第一區域和第二區域，該第一區域位于上述處理室側且設置于構成上述框體的壁，該第二區域設置于構成上述框體的壁中的與上述第一區域不同的區域，位于比上述第一區域靠上述加載互鎖室側且溫度比上述第一區域低； 檢測上述輸送室中的水分量的檢測部；以及 惰性氣體供給部，在上述水分量為預定值以上的情況下，該惰性氣體供給部能夠在上述輸送室的內部朝向上述第二區域局部地供給惰性氣體。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人株式會社國際電氣，其通訊地址為：日本東京都；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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