合肥鑫晟光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司栗芳芳獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉合肥鑫晟光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司申請的專利一種陣列基板的制作方法、陣列基板和顯示面板獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN115483226B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-12發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202110602382.5,技術領域涉及:H10D86/60;該發明授權一種陣列基板的制作方法、陣列基板和顯示面板是由栗芳芳;操彬彬;陸相晚;安暉;葉成枝;呂艷明;李法杰設計研發完成,并于2021-05-31向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種陣列基板的制作方法、陣列基板和顯示面板在說明書摘要公布了:本發明的實施例公開一種陣列基板的制作方法、陣列基板和顯示面板。該方法包括:在襯底上形成TFT晶體管,包括柵極、柵極絕緣層、有源區、源極和漏極;形成第一無機膜層,覆蓋所述顯示區;在第一無機膜層上形成第一有機膜區,露出漏極對應的第一無機膜層;形成第二無機膜層,包覆第一有機膜區;在靠近漏極的第二無機膜層上形成公共電極;形成第三無機膜層,覆蓋顯示區;形成開孔,以露出漏極;在靠近漏極的第三無機膜層上形成像素電極,像素電極與漏極電連接。本發明通過在有機膜層上形成一層高密度的無機膜層作為保護層,從而使得在后續步驟制作公共電極時,使用剝離液剝離光刻膠時,剝離液與有機膜區無法接觸,從而有機膜區也就不會出現溶脹。
本發明授權一種陣列基板的制作方法、陣列基板和顯示面板在權利要求書中公布了:1.一種陣列基板的制作方法,所述陣列基板包括顯示區,其特征在于,包括: 在襯底上形成TFT晶體管,包括柵極、在所述柵極后依次形成柵極絕緣層、有源區、源極和漏極; 形成第一無機膜層,覆蓋所述顯示區; 在第一無機膜層上形成第一有機膜區,露出所述漏極對應的第一無機膜層; 形成第二無機膜層,包覆所述第一有機膜區,所述第一有機膜區材料是PAC; 在靠近所述漏極的第二無機膜層上形成公共電極,和所述公共電極上的輔助電極; 所述輔助電極的制備方法包括:利用圖案化的第一光刻膠做掩模,對輔助電極層進行圖案化,從而形成所述輔助電極;具體包括使用剝離液浸泡去除所述第一光刻膠; 形成第三無機膜層,覆蓋所述顯示區; 形成開孔,以露出所述漏極; 在靠近所述漏極的第三無機膜層上形成像素電極,所述像素電極與所述漏極電連接。
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