株式會社瑞光島田崇博獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉株式會社瑞光申請的專利吸收體制造裝置和吸收體制造方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115715178B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-12發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202180043968.0，技術領域涉及：A61F13/15；該發明授權吸收體制造裝置和吸收體制造方法是由島田崇博設計研發完成，并于2021-07-05向國家知識產權局提交的專利申請。
本吸收體制造裝置和吸收體制造方法在說明書摘要公布了：本發明提供了一種吸收體制造裝置和一種吸收體制造方法，其能夠阻止在將吸收物質噴射到底層的過程中吸收物質的分散。本發明中的基材2沿著輸送滾筒12的旋轉外周表面12s被輸送。粒狀吸收物質8從面向輸送滾筒12的外周表面12s的噴射器30的噴射口32排出，并且吸收物質8被噴射到沿著輸送滾筒12的外周表面12s輸送的基材2上。吸收物質8噴射到底層2上的噴射位置是可控的。例如，控制噴射器30的噴射口32的位置或控制吸收物質8從噴射器30的噴射口32排出的排出角度。
本發明授權吸收體制造裝置和吸收體制造方法在權利要求書中公布了：1.一種吸收體制造裝置，其特征在于：它包括： 輸送滾筒，所述輸送滾筒具有旋轉的圓柱形外周表面，并且沿著外周表面輸送基材； 噴射器，所述噴射器具有面向所述輸送滾筒的外周表面的噴射口，從所述噴射口排出粒狀吸收物質，并將所述吸收物質噴射到沿著所述輸送滾筒的外周表面輸送的所述基材上，使僅所述粒狀吸收物質被所述基材捕獲；和 噴射位置控制裝置，所述噴射位置控制裝置用于控制所述吸收物質噴射到所述基材上的噴射位置， 其中所述噴射位置控制裝置包含：改變粒狀吸收物質的噴射位置的噴射位置改變裝置；檢測吸收物質的噴射位置或噴射情況的檢測裝置；和控制裝置，所述控制裝置控制噴射位置改變裝置同時監控由檢測裝置檢測的吸收物質的噴射位置或噴射情況，其中所述噴射位置控制裝置的控制裝置控制所述噴射位置，使得當水平面和垂直于所述輸送滾筒的旋轉中心線并經過所述噴射位置的直線所形成的角度為θ時，所述角度θ在滿足0°≤θ≤60°的預定范圍內。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人株式會社瑞光，其通訊地址為：日本國大阪府茨木市彩都花田二丁目1番2號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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