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龍圖騰網獲悉南陽利達光電有限公司申請的專利一種超寬角度穿透近紅外光AR膜獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN116047637B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-12發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202210932334.7，技術領域涉及：G02B1/115；該發明授權一種超寬角度穿透近紅外光AR膜是由劉中華;焦濤濤;陳軍;周李園;高亞麗設計研發完成，并于2022-08-04向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種超寬角度穿透近紅外光AR膜在說明書摘要公布了：本發明公開了一種超寬角度穿透近紅外光AR膜，包括基材和鍍在基材上的AR膜，所述AR膜由內到外由第一高折射率膜、第一低折射率膜、第二高折射率膜、第二低折射率膜、第三高折射率膜、第三低折射率膜、第四高折射率膜、第五高折射率膜、第四低折射率膜、第六高折射率膜、第七高折射率膜、第五低折射率膜、第八高折射率膜、第九高折射率膜、第六低折射率膜組成。本發明設計方案結構簡單、膜層應力小，非常適合工業化批量生產。

本發明授權一種超寬角度穿透近紅外光AR膜在權利要求書中公布了：1.一種超寬角度穿透近紅外光AR膜，包括基材和鍍在基材上的AR膜，所述AR膜由內到外由第一高折射率膜、第一低折射率膜、第二高折射率膜、第二低折射率膜、第三高折射率膜、第三低折射率膜、第四高折射率膜、第五高折射率膜、第四低折射率膜、第六高折射率膜、第七高折射率膜、第五低折射率膜、第八高折射率膜、第九高折射率膜、第六低折射率膜組成；所述第一高折射率膜鍍設于基材層上，膜層材料為H4、TIO2、ZrO2、HfO2、Nb2O3、Ta2O5中的一種，厚度50-103nm；所述第一低折射率膜鍍設于第一高折射率膜上，膜層材料為SIO2或MGF2,厚度30-85nm；所述第二高折射率膜鍍設于第一低折射率膜上，膜層材料為H4、TIO2、ZrO2、HfO2、Nb2O3、Ta2O5中的一種，厚度100-200nm；所述第二低折射率膜鍍設于第二高折射率膜上，膜層材料為SIO2或MGF2，厚度80-150nm；所述第三高折射率膜鍍設于第二低折射率膜上，膜層材料為H4、TIO2、ZrO2、HfO2、Nb2O3、Ta2O5中的一種，厚度65-120nm；所述第三低折射率膜鍍設于第三高折射率膜上，膜層材料為SIO2或MGF2,厚度70-140nm；所述第四高折射率膜鍍設于第三低折射率膜上，膜層材料H4、TIO2、ZrO2、HfO2、Nb2O3、Ta2O5中的一種,厚度90-170nm；所述第五高折射率膜鍍設于第四高折射率膜上，膜層材料H4、TIO2、ZrO2、HfO2、Nb2O3、Ta2O5中的一種,厚度55-120nm；所述第四低折射率膜鍍設于第五高折射率膜上，膜層材料為SIO2或MGF2,厚度270-540nm；所述第六高折射率膜鍍設于第四低折射率膜上，膜層材料為H4、TIO2、ZrO2、HfO2、Nb2O3、Ta2O5中的一種,厚度100-220nm；所述第七高折射率膜鍍設于第六高折射率膜上，膜層材料為H4、TIO2、ZrO2、HfO2、Nb2O3、Ta2O5中的一種,厚度70-170nm；所述第五低折射率膜鍍設于第七高折射率膜上，膜層材料為SIO2或MGF2，厚度20-60nm；所述第八高折射率膜鍍設于第五低折射率膜上，膜層材料為H4、TIO2、ZrO2、HfO2、Nb2O3、Ta2O5中的一種，厚度14-30nm；所述第九高折射率膜鍍設于第八高折射率膜上，膜層材料為H4、TIO2、ZrO2、HfO2、Nb2O3、Ta2O5中的一種，厚度90-190nm；所述第六低折射率膜鍍設于第九高折射率膜上，膜層材料為SIO2或MGF2任意的一種，厚度180-340nm；所述基材為光學玻璃時，AR膜系在近紅外波段，入射角0°-30°時最大反射率＜0.2%，入射角50°時最大反射率＜0.6%，入射角60°時最大反射率＜0.8%。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人南陽利達光電有限公司，其通訊地址為：473000 河南省南陽市高新區信臣西路366號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。