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龍圖騰網(wǎng)獲悉山東東岳高分子材料有限公司申請的專利一種聚四氟乙烯薄膜及其制備方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN116102750B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-12發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202211338151.9，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C08J5/18；該發(fā)明授權(quán)一種聚四氟乙烯薄膜及其制備方法是由劉長海;韓桂芳;王軍;陳越;付師慶;李彤;于紅霞設(shè)計研發(fā)完成，并于2022-10-28向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本一種聚四氟乙烯薄膜及其制備方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供一種聚四氟乙烯薄膜及其制備方法，該聚四氟乙烯薄膜的厚度達到0.01mm以下，與現(xiàn)有聚四氟乙烯薄膜相比，極大地降低了膜的厚度，不僅膜的厚度超薄且具有高表面光滑度和平整度，可以滿足于醫(yī)療膜、電路板保護膜等特殊用途膜的高端需求。所述制備方法將改性聚四氟乙烯樹脂經(jīng)模壓成型、燒結(jié)、車削得到車削膜；再將車削膜通過在聚四氟乙烯熔點以上的溫度進行一次壓延，再將壓延后的薄膜在低于聚四氟乙烯熔點的高溫下進行二次壓延，制得厚度小于0.01mm的聚四氟乙烯薄膜。制備工藝簡單，通過該方法不僅所得聚四氟乙烯薄膜的厚度小于0.01mm，并且薄膜表面能夠具有高的平整度和光潔度。

本發(fā)明授權(quán)一種聚四氟乙烯薄膜及其制備方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種聚四氟乙烯薄膜，其特征在于，所述聚四氟乙烯薄膜為厚度小于0.01mm的定向膜，且該定向膜的表面粗糙度Ra0.130μm； 所述聚四氟乙烯薄膜通過以下步驟制備所得： （1）將熔融粘度小于3.5×1010Pa·S的改性聚四氟乙烯樹脂粉末首先經(jīng)篩網(wǎng)過篩，然后經(jīng)模壓成型；燒結(jié)；車削，得到車削膜； （2）先將步驟（1）所得的車削膜在輥溫高于所用改性聚四氟乙烯樹脂熔點的條件下進行一次壓延； 再在輥溫低于所用改性聚四氟乙烯樹脂熔點的條件下進行二次壓延，得到厚度為小于0.01mm的定向膜。

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