買專利賣專利找龍圖騰，真高效！ 查專利查商標用IPTOP,全免費！專利年費監控用IP管家,真方便！

龍圖騰網獲悉中國人民解放軍32178部隊科技創新研究中心;湖南納菲爾新材料科技股份有限公司申請的專利一種碳化硅顆粒增強梯度鎳鎢合金鍍層及其制備方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115976606B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-12發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202310105535.4，技術領域涉及：C25D15/00；該發明授權一種碳化硅顆粒增強梯度鎳鎢合金鍍層及其制備方法是由李長青;鞠輝;趙顯蒙;王二立;孫淑偉設計研發完成，并于2023-02-13向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種碳化硅顆粒增強梯度鎳鎢合金鍍層及其制備方法在說明書摘要公布了：本發明提供一種碳化硅顆粒增強梯度鎳鎢合金鍍層及其制備方法，該制備方法包括如下步驟：1配制鎳鎢合金鍍液基礎液：2分別制備含低濃度碳化硅顆粒、中濃度碳化硅顆粒、高濃度碳化硅顆粒的鎳鎢合金鍍液；3順序電鍍。本發明提供的制備方法制備的碳化硅顆粒增強梯度鎳鎢合金鍍層與常規鎳鎢合金以相比，鍍層硬度更高，抗高溫氧化和磨損性能更好；與常規噴涂涂層和金屬陶瓷相比，韌性更好，比鍍鉻硬度更高，在航空航天和軍事裝備領域具有廣闊的應用前景。

本發明授權一種碳化硅顆粒增強梯度鎳鎢合金鍍層及其制備方法在權利要求書中公布了：1.一種碳化硅顆粒增強梯度鎳鎢合金鍍層的制備方法，其特征在于，包括如下步驟： 1）配制鎳鎢合金鍍液基礎液： 將硫酸鎳、鎢酸鈉、焦磷酸鈉、穩定劑溶于去離子水，制成鎳鎢合金鍍液基礎液；其中，鎢酸鈉的濃度為30-40gL，硫酸鎳的濃度為20~25gL，焦磷酸鈉的摩爾濃度為硫酸鎳的摩爾濃度的3倍，穩定劑的濃度為0.05gL，pH=7.5~8.5； 2）分別制備含低濃度碳化硅顆粒、中濃度碳化硅顆粒、高濃度碳化硅顆粒的鎳鎢合金鍍液 制備該含低濃度碳化硅顆粒的鎳鎢合金鍍液：量取碳化硅顆粒，用5-10倍質量的去離子水攪拌清洗30~40min、2-3層濾紙抽濾，過濾得到的碳化硅顆粒再重復清洗1~2次后加入鎳鎢合金鍍液母液中，定容，然后采用機械攪拌、磁力攪拌或用泵使鍍液循環流動，持續攪動鍍液，保持碳化硅顆粒懸浮均勻，得到含低濃度碳化硅顆粒的鎳鎢合金鍍液；其中，碳化硅顆粒的濃度為1~10gL； 制備該含中濃度碳化硅顆粒的鎳鎢合金鍍液：量取碳化硅顆粒，用5-10倍質量的去離子水攪拌清洗30~40min、2-3層濾紙抽濾，過濾得到的碳化硅顆粒再重復清洗1~2次后加入鎳鎢合金鍍液母液中，定容，然后采用機械攪拌、磁力攪拌或用泵使鍍液循環流動，持續攪動鍍液，使碳化硅顆粒懸浮均勻，得到含中濃度碳化硅顆粒的鎳鎢合金鍍液；其中，碳化硅的含量為11~40gL； 制備該含高濃度碳化硅顆粒的鎳鎢合金鍍液：量取碳化硅顆粒，用5-10倍質量的去離子水攪拌清洗30~40min、2-3層濾紙抽濾，過濾得到的碳化硅顆粒再重復清洗1~2次后加入鎳鎢合金鍍液母液中，定容，然后采用機械攪拌、磁力攪拌或用泵使鍍液循環流動，持續攪動鍍液，使碳化硅顆粒懸浮均勻，得到含高濃度碳化硅顆粒的鎳鎢合金鍍液；其中，碳化硅的含量為50~300gL； 3）順序電鍍： 將工件依次在含低濃度碳化硅顆粒的鎳鎢合金鍍液、含中濃度碳化硅顆粒的鎳鎢合金鍍液、該含高濃度碳化硅顆粒的鎳鎢合金鍍液中進行電鍍，得到三層結構的碳化硅顆粒增強梯度鎳鎢合金鍍層； 其中，所述穩定劑為肌醇。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人中國人民解放軍32178部隊科技創新研究中心;湖南納菲爾新材料科技股份有限公司，其通訊地址為：100012 北京市朝陽區來廣營地區北苑一號院；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。